ReP USP - Resultado da busca

Trabalho de evento
A practical procedure to match the measured capacitance of low and high frequency in order to obtain the energy distribution of the interface stated density (2001)
Toquetti, Leandro Zeidan; Nogueira, Willian Aurélio; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
TOQUETTI, Leandro Zeidan e NOGUEIRA, Willian Aurélio e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. A practical procedure to match the measured capacitance of low and high frequency in order to obtain the energy distribution of the interface stated density. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Toquetti, L. Z., Nogueira, W. A., & Santos Filho, S. G. dos. (2001). A practical procedure to match the measured capacitance of low and high frequency in order to obtain the energy distribution of the interface stated density. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Toquetti LZ, Nogueira WA, Santos Filho SG dos. A practical procedure to match the measured capacitance of low and high frequency in order to obtain the energy distribution of the interface stated density. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Toquetti LZ, Nogueira WA, Santos Filho SG dos. A practical procedure to match the measured capacitance of low and high frequency in order to obtain the energy distribution of the interface stated density. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H (2001)
Oliveira, A. R.; Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OLIVEIRA, A. R. e PEREYRA, Inés e PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Oliveira, A. R., Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2001). Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor (2001)
Siarkowski, Acácio Luiz; Bulla, Douglas Anderson Pereira; Morimoto, Nilton Itiro
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assuntos: CIRCUITOS INTEGRADOS, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SIARKOWSKI, Acácio Luiz e BULLA, Douglas Anderson Pereira e MORIMOTO, Nilton Itiro. Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Siarkowski, A. L., Bulla, D. A. P., & Morimoto, N. I. (2001). Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Siarkowski AL, Bulla DAP, Morimoto NI. Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Siarkowski AL, Bulla DAP, Morimoto NI. Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
The influence of electrode material on argon plasmas (2001)
Ruas, Ronaldo; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Braithwaite, S. J.
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RUAS, Ronaldo et al. The influence of electrode material on argon plasmas. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Ruas, R., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Braithwaite, S. J. (2001). The influence of electrode material on argon plasmas. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Behavior of the graded-channel fully-depleted SOI nMOSFET in suthreshold regime (2001)
Gimenez, Salvador Pinillos ; Pavanello, Marcelo Antonio ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GIMENEZ, Salvador Pinillos e PAVANELLO, Marcelo Antonio e MARTINO, João Antonio. Behavior of the graded-channel fully-depleted SOI nMOSFET in suthreshold regime. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Gimenez, S. P., Pavanello, M. A., & Martino, J. A. (2001). Behavior of the graded-channel fully-depleted SOI nMOSFET in suthreshold regime. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Gimenez SP, Pavanello MA, Martino JA. Behavior of the graded-channel fully-depleted SOI nMOSFET in suthreshold regime. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Gimenez SP, Pavanello MA, Martino JA. Behavior of the graded-channel fully-depleted SOI nMOSFET in suthreshold regime. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions (2001)
Reis, Ronaldo Willian; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
REIS, Ronaldo Willian e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Reis, R. W., & Santos Filho, S. G. dos. (2001). Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Simulations of an interference birefringent thin film filter used as a narrow-band polarizer (2001)
Araújo, Hugo Puertas de; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ARAÚJO, Hugo Puertas de e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Simulations of an interference birefringent thin film filter used as a narrow-band polarizer. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Araújo, H. P. de, & Santos Filho, S. G. dos. (2001). Simulations of an interference birefringent thin film filter used as a narrow-band polarizer. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Araújo HP de, Santos Filho SG dos. Simulations of an interference birefringent thin film filter used as a narrow-band polarizer. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Araújo HP de, Santos Filho SG dos. Simulations of an interference birefringent thin film filter used as a narrow-band polarizer. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS (2001)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e MORIMOTO, Nilton Itiro e BONNAUD, Olivier. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Silva, A. N. R. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2001). The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Optical characterization of an amorphous-hydrogenated carbon film and its application in phase modulated diffractive optical elements (2001)
Cirino, Giuseppe Antonio; Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues ; Gonçalves Neto, Luiz
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidades: EP, EESC
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio et al. Optical characterization of an amorphous-hydrogenated carbon film and its application in phase modulated diffractive optical elements. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Cirino, G. A., Verdonck, P. B., Mansano, R. D., & Gonçalves Neto, L. (2001). Optical characterization of an amorphous-hydrogenated carbon film and its application in phase modulated diffractive optical elements. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Cirino GA, Verdonck PB, Mansano RD, Gonçalves Neto L. Optical characterization of an amorphous-hydrogenated carbon film and its application in phase modulated diffractive optical elements. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Cirino GA, Verdonck PB, Mansano RD, Gonçalves Neto L. Optical characterization of an amorphous-hydrogenated carbon film and its application in phase modulated diffractive optical elements. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Improved current mirror output performance by using graded-channel SOI nMOSFETs (2001)
Pavanello, Marcelo Antonio ; Martino, João Antonio ; Flandre, Denis
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PAVANELLO, Marcelo Antonio e MARTINO, João Antonio e FLANDRE, Denis. Improved current mirror output performance by using graded-channel SOI nMOSFETs. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Pavanello, M. A., Martino, J. A., & Flandre, D. (2001). Improved current mirror output performance by using graded-channel SOI nMOSFETs. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Pavanello MA, Martino JA, Flandre D. Improved current mirror output performance by using graded-channel SOI nMOSFETs. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Pavanello MA, Martino JA, Flandre D. Improved current mirror output performance by using graded-channel SOI nMOSFETs. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Analysis of process parameters in "Smart cut" SOI structure fabrication (2001)
Escobar Forhan, Neisy Amparo; Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Gonçalves, José Lino
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo e BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e GONÇALVES, José Lino. Analysis of process parameters in "Smart cut" SOI structure fabrication. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Escobar Forhan, N. A., Braga, N. L. de A., & Gonçalves, J. L. (2001). Analysis of process parameters in "Smart cut" SOI structure fabrication. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Escobar Forhan NA, Braga NL de A, Gonçalves JL. Analysis of process parameters in "Smart cut" SOI structure fabrication. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Escobar Forhan NA, Braga NL de A, Gonçalves JL. Analysis of process parameters in "Smart cut" SOI structure fabrication. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics (2001)
Moraes, H. F.; Seabra, Antonio Carlos
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORAES, H. F. e SEABRA, Antonio Carlos. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Moraes, H. F., & Seabra, A. C. (2001). Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Moraes HF, Seabra AC. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Moraes HF, Seabra AC. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
New method for determining the silicon film doping concentration and the back interface oxide charge density using SOI-MOS capacitor (2001)
Sonnenberg, Victor ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SONNENBERG, Victor e MARTINO, João Antonio. New method for determining the silicon film doping concentration and the back interface oxide charge density using SOI-MOS capacitor. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Sonnenberg, V., & Martino, J. A. (2001). New method for determining the silicon film doping concentration and the back interface oxide charge density using SOI-MOS capacitor. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Sonnenberg V, Martino JA. New method for determining the silicon film doping concentration and the back interface oxide charge density using SOI-MOS capacitor. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Sonnenberg V, Martino JA. New method for determining the silicon film doping concentration and the back interface oxide charge density using SOI-MOS capacitor. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
A new technique to extract the oxide charge density at front and back interfaces of SOI nMOSFETs devices (2001)
Nicolett, Aparecido Sirley; Martino, João Antonio ; Simoen, Eddy ; Claeys, Cor
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NICOLETT, Aparecido Sirley et al. A new technique to extract the oxide charge density at front and back interfaces of SOI nMOSFETs devices. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Nicolett, A. S., Martino, J. A., Simoen, E., & Claeys, C. (2001). A new technique to extract the oxide charge density at front and back interfaces of SOI nMOSFETs devices. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Nicolett AS, Martino JA, Simoen E, Claeys C. A new technique to extract the oxide charge density at front and back interfaces of SOI nMOSFETs devices. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Nicolett AS, Martino JA, Simoen E, Claeys C. A new technique to extract the oxide charge density at front and back interfaces of SOI nMOSFETs devices. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Temporal evolution of roughness in electroless copper films (2001)
Hasan, Nasser Mahmoud; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Schwazacher, Walter
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
HASAN, Nasser Mahmoud e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e SCHWAZACHER, Walter. Temporal evolution of roughness in electroless copper films. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Hasan, N. M., Santos Filho, S. G. dos, & Schwazacher, W. (2001). Temporal evolution of roughness in electroless copper films. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Hasan NM, Santos Filho SG dos, Schwazacher W. Temporal evolution of roughness in electroless copper films. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Hasan NM, Santos Filho SG dos, Schwazacher W. Temporal evolution of roughness in electroless copper films. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
A simple leakage drain current model for accumulation-mode SOI pMOSFETs operating up to 300ºC (2001)
Bellodi, Marcello; Iniguez, Benjamin; Flandre, Denis ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BELLODI, Marcello et al. A simple leakage drain current model for accumulation-mode SOI pMOSFETs operating up to 300ºC. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Bellodi, M., Iniguez, B., Flandre, D., & Martino, J. A. (2001). A simple leakage drain current model for accumulation-mode SOI pMOSFETs operating up to 300ºC. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Bellodi M, Iniguez B, Flandre D, Martino JA. A simple leakage drain current model for accumulation-mode SOI pMOSFETs operating up to 300ºC. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Bellodi M, Iniguez B, Flandre D, Martino JA. A simple leakage drain current model for accumulation-mode SOI pMOSFETs operating up to 300ºC. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Design of microfluidic oscillators (2001)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Pereira, Marcos Tadeu
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner e FURLAN, Rogério e PEREIRA, Marcos Tadeu. Design of microfluidic oscillators. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., & Pereira, M. T. (2001). Design of microfluidic oscillators. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Simões EW, Furlan R, Pereira MT. Design of microfluidic oscillators. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Pereira MT. Design of microfluidic oscillators. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Development of a low temperature N and P type fabrication process by LPCVD and SPC techniques (2001)
Gautier, Gael; Crand, Samuel; Bonnaud, Olivier; Viana, Carlos Eduardo; Morimoto, Nilton Itiro
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GAUTIER, Gael et al. Development of a low temperature N and P type fabrication process by LPCVD and SPC techniques. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Gautier, G., Crand, S., Bonnaud, O., Viana, C. E., & Morimoto, N. I. (2001). Development of a low temperature N and P type fabrication process by LPCVD and SPC techniques. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Gautier G, Crand S, Bonnaud O, Viana CE, Morimoto NI. Development of a low temperature N and P type fabrication process by LPCVD and SPC techniques. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Gautier G, Crand S, Bonnaud O, Viana CE, Morimoto NI. Development of a low temperature N and P type fabrication process by LPCVD and SPC techniques. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Contactless determination of minority-carrier lifetimes by photoconductance measurements (2001)
Ramos, Carlos A. S.; Cid Sánchez, Manuel
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RAMOS, Carlos A. S. e CID SÁNCHEZ, Manuel. Contactless determination of minority-carrier lifetimes by photoconductance measurements. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Ramos, C. A. S., & Cid Sánchez, M. (2001). Contactless determination of minority-carrier lifetimes by photoconductance measurements. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Ramos CAS, Cid Sánchez M. Contactless determination of minority-carrier lifetimes by photoconductance measurements. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Ramos CAS, Cid Sánchez M. Contactless determination of minority-carrier lifetimes by photoconductance measurements. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation (2001)
Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Galeazzo, Elisabete ; Dantas, Michel Oliveira da Silva; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PERES, Henrique Estanislau Maldonado et al. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Peres, H. E. M., Galeazzo, E., Dantas, M. O. da S., & Ramírez Fernandez, F. J. (2001). Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]

Unidades USP

ReP

Filtros

Departamento

Autores

Autores USP

Afiliação dos autores externos não normalizada