The influence of electrode material on argon plasmas (2001)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: SBMicro 2001: proceedings
- Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging
-
ABNT
RUAS, Ronaldo; MANSANO, Ronaldo Domingues; VERDONCK, Patrick Bernard; BRAITHWAITE, S. J. The influence of electrode material on argon plasmas. Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. -
APA
Ruas, R., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Braithwaite, S. J. (2001). The influence of electrode material on argon plasmas. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro. -
NLM
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ; -
Vancouver
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ; - Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
- Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos
- Aluminium etching with CC14-N2 plasma
- RF electrical measurements in plasma processing reactors
- Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
- Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma
- Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
- Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes
- Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao
- Aluminium etching with cc14-n2 plasmas
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
