Laser enhanced polymer etching in different ambients (1989)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/0167-9317(89)90111-1
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Microelectronic Engineering
- ISSN: 0167-9317
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 9, p. 507-510, 1989
- Status:
- Nenhuma versão em acesso aberto identificada
-
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e BRASSEUR, G. e COOPMANS, F. Laser enhanced polymer etching in different ambients. Microelectronic Engineering, v. 9, p. 507-510, 1989Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0167-9317(89)90111-1. Acesso em: 11 abr. 2026. -
APA
Verdonck, P. B., Brasseur, G., & Coopmans, F. (1989). Laser enhanced polymer etching in different ambients. Microelectronic Engineering, 9, 507-510. doi:10.1016/0167-9317(89)90111-1 -
NLM
Verdonck PB, Brasseur G, Coopmans F. Laser enhanced polymer etching in different ambients [Internet]. Microelectronic Engineering. 1989 ; 9 507-510.[citado 2026 abr. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-9317(89)90111-1 -
Vancouver
Verdonck PB, Brasseur G, Coopmans F. Laser enhanced polymer etching in different ambients [Internet]. Microelectronic Engineering. 1989 ; 9 507-510.[citado 2026 abr. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-9317(89)90111-1 - The influence of electrode material on argon plasmas
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