Aluminium etching with CC14-N2 plasma (1997)
- Authors:
- USP affiliated author: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- School: EP
- Subject: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
-
ABNT
NAKAZAWA, Angela Makie; VERDONCK, Patrick Bernard. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. [S.l: s.n.], 1997. -
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1997). Aluminium etching with CC14-N2 plasma. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ; -
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ; - Study of power balance in electronegative capacitively coupled plasmas
- Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
- Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes
- Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao
- Aluminium etching with cc14-n2 plasmas
- The influence of electrode material on argon plasmas
- RF electrical measurements in plasma processing reactors
- Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos
- Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
- Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas