Aluminium etching with CC14-N2 plasma (1997)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
-
ABNT
NAKAZAWA, Angela Makie e VERDONCK, Patrick Bernard. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 15 fev. 2026. , 1997 -
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1997). Aluminium etching with CC14-N2 plasma. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ;[citado 2026 fev. 15 ] -
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ;[citado 2026 fev. 15 ] - The influence of electrode material on argon plasmas
- Estudo sobre danos induzidos por plasma
- The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching
- RF electrical measurements in plasma processing reactors
- Oxygen plasma etching mechanisms of resist
- Corrosão por plasma de espaçadores em óxido de silício
- Plasma etching of aluminium using BCl3-Cl2 mixtures. (em CD-Rom)
- Laser enhanced polymer etching in different ambients
- The effect of electrode materials on etching mechanisms
- Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
