The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching (2004)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/j.tsf.2003.12.117
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Thin Solid Films,
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 459, n. 1-2, p. 141-144
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e GOODYEAR, Alec e BRAITHWAITE, Nicholas. The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching. Thin Solid Films, v. 459, n. 1-2, p. 141-144, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.12.117. Acesso em: 28 mar. 2024. -
APA
Verdonck, P. B., Goodyear, A., & Braithwaite, N. (2004). The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching. Thin Solid Films,, 459( 1-2), 141-144. doi:10.1016/j.tsf.2003.12.117 -
NLM
Verdonck PB, Goodyear A, Braithwaite N. The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching [Internet]. Thin Solid Films,. 2004 ; 459( 1-2): 141-144.[citado 2024 mar. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.12.117 -
Vancouver
Verdonck PB, Goodyear A, Braithwaite N. The influence of diffusion of fluorine compounds for silicon lateral etching [Internet]. Thin Solid Films,. 2004 ; 459( 1-2): 141-144.[citado 2024 mar. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.12.117 - Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.tsf.2003.12.117 (Fonte: oaDOI API)
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