Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation (2001)
- Authors:
- USP affiliated authors: GALEAZZO, ELISABETE - EP ; FERNANDEZ, FRANCISCO JAVIER RAMIREZ - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: SBMicro 2001: proceedings
- Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging
-
ABNT
PERES, Henrique Estanislau Maldonado et al. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 23 jan. 2026. -
APA
Peres, H. E. M., Galeazzo, E., Dantas, M. O. da S., & Ramírez Fernandez, F. J. (2001). Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro. -
NLM
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2026 jan. 23 ] -
Vancouver
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2026 jan. 23 ] - Modelo simplificado da sensibilidade de sensores de campo magnetico integraveis
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