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Artigo de periodico
Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis (2013)
Moreira, Adir José; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ordonez, Nelson
Source: Nanomaterials and Nanotechnology. Unidade: EP
Subjects: CÉLULAS A COMBUSTÍVEL, PLASMA (MICROELETRÔNICA), NANOPARTÍCULAS, PLATINA
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ABNT
MOREIRA, Adir José e MANSANO, Ronaldo Domingues e ORDONEZ, Nelson. Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis. Nanomaterials and Nanotechnology, v. 1, p. 1-6, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.5772/56932. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Moreira, A. J., Mansano, R. D., & Ordonez, N. (2013). Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis. Nanomaterials and Nanotechnology, 1, 1-6. doi:10.5772/56932
NLM
Moreira AJ, Mansano RD, Ordonez N. Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis [Internet]. Nanomaterials and Nanotechnology. 2013 ;1 1-6.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.5772/56932
Vancouver
Moreira AJ, Mansano RD, Ordonez N. Low Pressure Plasma Study for Platinum Nanoparticles Synthesis [Internet]. Nanomaterials and Nanotechnology. 2013 ;1 1-6.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.5772/56932
Dissertação (Mestrado)
Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico à pressão atmosférica (2012)
Isoldi, Maurício ; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), ESPECTROMETRIA
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ABNT
ISOLDI, Maurício. Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico à pressão atmosférica. 2012. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2012. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31072013-001412/. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Isoldi, M. (2012). Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico à pressão atmosférica (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31072013-001412/
NLM
Isoldi M. Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico à pressão atmosférica [Internet]. 2012 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31072013-001412/
Vancouver
Isoldi M. Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico à pressão atmosférica [Internet]. 2012 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31072013-001412/
Artigo de periodico
Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment (2007)
Silva, Juliano de Morais Ferreira; Moreira, A. J.; Oliveira, D. C.; Bonato, C. B.; Mansano, Ronaldo Domingues ; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli
Source: Journal of pharmaceutical science and technology. Unidades: EP, FCF
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
SILVA, Juliano de Morais Ferreira et al. Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment. Journal of pharmaceutical science and technology, v. 61, n. 3, p. 204-210, 2007Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Silva, J. de M. F., Moreira, A. J., Oliveira, D. C., Bonato, C. B., Mansano, R. D., & Pinto, T. de J. A. (2007). Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment. Journal of pharmaceutical science and technology, 61( 3), 204-210.
NLM
Silva J de MF, Moreira AJ, Oliveira DC, Bonato CB, Mansano RD, Pinto T de JA. Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment. Journal of pharmaceutical science and technology. 2007 ;61( 3): 204-210.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Silva J de MF, Moreira AJ, Oliveira DC, Bonato CB, Mansano RD, Pinto T de JA. Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment. Journal of pharmaceutical science and technology. 2007 ;61( 3): 204-210.[citado 2024 nov. 05 ]
Dissertação (Mestrado)
Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados (2007)
Teixeira, Fernanda de Sá; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA, PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
TEIXEIRA, Fernanda de Sá. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados. 2007. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Teixeira, F. de S. (2007). Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/
NLM
Teixeira F de S. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados [Internet]. 2007 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/
Vancouver
Teixeira F de S. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados [Internet]. 2007 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27072007-175354/
Dissertação (Mestrado)
Estudo de camadas poliméricas para proteção de dutos para petróleo (2005)
Polak, Peter Lubomir; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: REVESTIMENTO DE SUPERFÍCIES, POLÍMEROS (MATERIAIS), ANTICORROSIVOS, TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES, PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
POLAK, Peter Lubomir. Estudo de camadas poliméricas para proteção de dutos para petróleo. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Polak, P. L. (2005). Estudo de camadas poliméricas para proteção de dutos para petróleo (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Polak PL. Estudo de camadas poliméricas para proteção de dutos para petróleo. 2005 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Polak PL. Estudo de camadas poliméricas para proteção de dutos para petróleo. 2005 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Diamond like-carbon microoptics elements (2003)
Verdonck, Patrick Bernard; Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Genovesi, Daniela
Source: EVC Abstracts. Conference titles: European Vacuum Congress. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Diamond like-carbon microoptics elements. 2003, Anais.. Berlin: Elsevier, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Mousinho, A. P., Mansano, R. D., & Genovesi, D. (2003). Diamond like-carbon microoptics elements. In EVC Abstracts. Berlin: Elsevier.
NLM
Verdonck PB, Mousinho AP, Mansano RD, Genovesi D. Diamond like-carbon microoptics elements. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Verdonck PB, Mousinho AP, Mansano RD, Genovesi D. Diamond like-carbon microoptics elements. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Spectroscopic studies of plasma sterilization (2003)
Moreira, Adir José; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ordonez, Nelson; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Silva, Juliano de Morais Ferreira; Zambom, Luís da Silva
Source: Program and Abstracts.. Conference titles: Brazilian Meeting on Plasma Physics. Unidades: EP, FCF
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
MOREIRA, Adir José et al. Spectroscopic studies of plasma sterilization. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Moreira, A. J., Mansano, R. D., Ordonez, N., Pinto, T. de J. A., Silva, J. de M. F., & Zambom, L. da S. (2003). Spectroscopic studies of plasma sterilization. In Program and Abstracts.. São Paulo: SBF.
NLM
Moreira AJ, Mansano RD, Ordonez N, Pinto T de JA, Silva J de MF, Zambom L da S. Spectroscopic studies of plasma sterilization. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Moreira AJ, Mansano RD, Ordonez N, Pinto T de JA, Silva J de MF, Zambom L da S. Spectroscopic studies of plasma sterilization. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Relatorio tecnico
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2003)
Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO
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ABNT
TORRES, Ani Sobral e MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 05 nov. 2024. , 2003
APA
Torres, A. S., & Mansano, R. D. (2003). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). São Paulo: EPUSP.
NLM
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Micro-machine fabrication using diamond-like carbon films (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Jaramillo Ocampo, Juan Manuel
Source: Diamond and Related Materials. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula et al. Micro-machine fabrication using diamond-like carbon films. Diamond and Related Materials, v. 12, n. 3-7, p. 1041-1044, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00219-4. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., Massi, M., & Jaramillo Ocampo, J. M. (2003). Micro-machine fabrication using diamond-like carbon films. Diamond and Related Materials, 12( 3-7), 1041-1044. doi:10.1016/s0925-9635(02)00219-4
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Jaramillo Ocampo JM. Micro-machine fabrication using diamond-like carbon films [Internet]. Diamond and Related Materials. 2003 ; 12( 3-7): 1041-1044.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00219-4
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Jaramillo Ocampo JM. Micro-machine fabrication using diamond-like carbon films [Internet]. Diamond and Related Materials. 2003 ; 12( 3-7): 1041-1044.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00219-4
Trabalho de evento-resumo
High density plasma chemical deposition of amorphous carbon films (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Program and Abstracts.. Conference titles: Brazilian Meeting on Plasma Physics. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues. High density plasma chemical deposition of amorphous carbon films. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mousinho, A. P., & Mansano, R. D. (2003). High density plasma chemical deposition of amorphous carbon films. In Program and Abstracts.. São Paulo: SBF.
NLM
Mousinho AP, Mansano RD. High density plasma chemical deposition of amorphous carbon films. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD. High density plasma chemical deposition of amorphous carbon films. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Influence of the subtrate surface topography in the growth of DLC films deposited by plasmas processes (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Program and Abstracts.. Conference titles: Brazilian Meeting on Plasma Physics. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues. Influence of the subtrate surface topography in the growth of DLC films deposited by plasmas processes. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mousinho, A. P., & Mansano, R. D. (2003). Influence of the subtrate surface topography in the growth of DLC films deposited by plasmas processes. In Program and Abstracts.. São Paulo: SBF.
NLM
Mousinho AP, Mansano RD. Influence of the subtrate surface topography in the growth of DLC films deposited by plasmas processes. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD. Influence of the subtrate surface topography in the growth of DLC films deposited by plasmas processes. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Zambom, Luís da Silva
Source: Microelectronics Journal. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula et al. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films. Microelectronics Journal, v. 34, n. 5-8, p. 627-629, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., Massi, M., & Zambom, L. da S. (2003). High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films. Microelectronics Journal, 34( 5-8), 627-629. doi:10.1016/s0026-2692(03)00065-x
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Zambom L da S. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8): 627-629.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Zambom L da S. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8): 627-629.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x
Trabalho de evento-resumo
Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Program and Abstracts.. Conference titles: Brazilian Meeting on Plasma Physics. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues. Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mousinho, A. P., & Mansano, R. D. (2003). Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition. In Program and Abstracts.. São Paulo: SBF.
NLM
Mousinho AP, Mansano RD. Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD. Influence of the fluorine addition on the electric characteristics of DLC films deposited by high density plasma chemical vapor deposition. Program and Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Sterilization by oxigen plasma (2003)
Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ruas, Ronaldo; Zambom, Luís da Silva ; Moreira, Adir José; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Silva, Mônica Valero da
Source: EVC Abstracts. Conference titles: European Vacuum Congress. Unidades: EP, FCF
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Sterilization by oxigen plasma. 2003, Anais.. Berlin: Elsevier, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Mansano, R. D., Ruas, R., Zambom, L. da S., Moreira, A. J., Pinto, T. de J. A., & Silva, M. V. da. (2003). Sterilization by oxigen plasma. In EVC Abstracts. Berlin: Elsevier.
NLM
Verdonck PB, Mansano RD, Ruas R, Zambom L da S, Moreira AJ, Pinto T de JA, Silva MV da. Sterilization by oxigen plasma. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Verdonck PB, Mansano RD, Ruas R, Zambom L da S, Moreira AJ, Pinto T de JA, Silva MV da. Sterilization by oxigen plasma. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Plasma etching of DLC films for microfluidic channels (2003)
Massi, Marcos; Jaramillo Ocampo, Juan Manuel; Maciel, Homero Santiago; Grigorov, K.; Otani, C.; Santos, L. V.; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Microelectronics Journal,. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MASSI, Marcos et al. Plasma etching of DLC films for microfluidic channels. Microelectronics Journal, v. 34, n. 5-8, p. 635-638, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00077-6. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Massi, M., Jaramillo Ocampo, J. M., Maciel, H. S., Grigorov, K., Otani, C., Santos, L. V., & Mansano, R. D. (2003). Plasma etching of DLC films for microfluidic channels. Microelectronics Journal,, 34( 5-8), 635-638. doi:10.1016/s0026-2692(03)00077-6
NLM
Massi M, Jaramillo Ocampo JM, Maciel HS, Grigorov K, Otani C, Santos LV, Mansano RD. Plasma etching of DLC films for microfluidic channels [Internet]. Microelectronics Journal,. 2003 ; 34( 5-8): 635-638.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00077-6
Vancouver
Massi M, Jaramillo Ocampo JM, Maciel HS, Grigorov K, Otani C, Santos LV, Mansano RD. Plasma etching of DLC films for microfluidic channels [Internet]. Microelectronics Journal,. 2003 ; 34( 5-8): 635-638.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00077-6
Artigo de periodico
Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia (2003)
Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Vacuum. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e MANSANO, Ronaldo Domingues. Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia. Vacuum, v. 71, n. 4, p. 439-444, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0042-207x(03)00002-2. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Zambom, L. da S., & Mansano, R. D. (2003). Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia. Vacuum, 71( 4), 439-444. doi:10.1016/s0042-207x(03)00002-2
NLM
Zambom L da S, Mansano RD. Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia [Internet]. Vacuum. 2003 ; 71( 4): 439-444.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0042-207x(03)00002-2
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD. Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia [Internet]. Vacuum. 2003 ; 71( 4): 439-444.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0042-207x(03)00002-2
Artigo de periodico
The effects of the nitrogen on the electrical and structural properties of the diamond-like carbon (DLC) films (2003)
Guerino, M.; Massi, Marcos; Maciel, Homero Santiago; Otani, C.; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Microelectronics Journal. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GUERINO, M. et al. The effects of the nitrogen on the electrical and structural properties of the diamond-like carbon (DLC) films. Microelectronics Journal, v. 34, n. 5-8, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00079-x. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Guerino, M., Massi, M., Maciel, H. S., Otani, C., & Mansano, R. D. (2003). The effects of the nitrogen on the electrical and structural properties of the diamond-like carbon (DLC) films. Microelectronics Journal, 34( 5-8). doi:10.1016/s0026-2692(03)00079-x
NLM
Guerino M, Massi M, Maciel HS, Otani C, Mansano RD. The effects of the nitrogen on the electrical and structural properties of the diamond-like carbon (DLC) films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8):[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00079-x
Vancouver
Guerino M, Massi M, Maciel HS, Otani C, Mansano RD. The effects of the nitrogen on the electrical and structural properties of the diamond-like carbon (DLC) films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8):[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00079-x
Tese (Livre Docência)
Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC) (2002)
Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), FILMES FINOS, DIELÉTRICOS, CARBONO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues. Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC). 2002. Tese (Livre Docência) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-06072022-073436/. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mansano, R. D. (2002). Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC) (Tese (Livre Docência). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-06072022-073436/
NLM
Mansano RD. Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-06072022-073436/
Vancouver
Mansano RD. Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/livredocencia/3/tde-06072022-073436/
Dissertação (Mestrado)
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2002)
Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO
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ABNT
TORRES, Ani Sobral. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Torres, A. S. (2002). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php
NLM
Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php
Vancouver
Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php
Artigo de periodico
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization (1999)
Castro, Raul Murete de; Cirino, Giuseppe Antonio; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago; Massi, Marcos; Pisani, M B; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Contributions to plasma physics. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
CASTRO, Raul Murete de et al. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics, v. 39, n. 3, p. 235-246, 1999Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Castro, R. M. de, Cirino, G. A., Verdonck, P. B., Maciel, H. S., Massi, M., Pisani, M. B., & Mansano, R. D. (1999). A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics, 39( 3), 235-246.
NLM
Castro RM de, Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics. 1999 ;39( 3): 235-246.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Castro RM de, Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics. 1999 ;39( 3): 235-246.[citado 2024 nov. 05 ]

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