High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films (2003)
- Authors:
- Autor USP: MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/s0026-2692(03)00065-x
- Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Microelectronics Journal
- ISSN: 0026-2692
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 34, n. 5-8, p. 627-629, May/Aug. 2003
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula et al. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films. Microelectronics Journal, v. 34, n. 5-8, p. 627-629, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x. Acesso em: 27 dez. 2025. -
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., Massi, M., & Zambom, L. da S. (2003). High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films. Microelectronics Journal, 34( 5-8), 627-629. doi:10.1016/s0026-2692(03)00065-x -
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Zambom L da S. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8): 627-629.[citado 2025 dez. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x -
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Zambom L da S. High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films [Internet]. Microelectronics Journal. 2003 ; 34( 5-8): 627-629.[citado 2025 dez. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2692(03)00065-x - Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0026-2692(03)00065-x (Fonte: oaDOI API)
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