Estudo sobre danos induzidos por plasma (1998)
- Autor:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEE
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho foi feito um estudo sobre vários tipos de danos induzidos por plasma. Na parte experimental, estudamos o fenômeno de rugosidade induzida por corrosão por plasma em superfícies de silício. Primeiramente, determinamos qual procedimento a ser usado para medir e determinar a rugosidade. Para isso introduzimos o parâmetro "rugosidade normalizada" que é a rugosidade média medida na superfície sobre a profundidade da estrutura corroída. Verificamos que os seguintes parâmetros são os mais importantes na geração da rugosidade no silício: presença de oxigênio no plasma, presença do óxido nativo na superfície do silício antes da corrosão, material da máscara, tensão DC no eletrodo e modo do plasma (RIE ou ICP). Estudamos também a contaminação metálica induzida pelo plasma. Determinamos que o material do eletrodo é o fator principal da contaminação. Verificamos que uma limpeza RCA padrão não remove estas impurezas. Uma imersão em HF diluído remove todos os metais menos o cobre e o níquel. Cobre é redepositada pelo efeito "plating". Mostramos que é muito provável que o nível esteja presente na forma de um siliceto de níquel estável que não é removido por etapas de limpeza padrão.
- Imprenta:
- Data da defesa: 05.06.1998
-
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard. Estudo sobre danos induzidos por plasma. 1998.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1998. -
APA
Verdonck, P. B. (1998). Estudo sobre danos induzidos por plasma. Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Verdonck PB. Estudo sobre danos induzidos por plasma. 1998 ; -
Vancouver
Verdonck PB. Estudo sobre danos induzidos por plasma. 1998 ; - Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes
- Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
- Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao
- Aluminium etching with cc14-n2 plasmas
- The influence of electrode material on argon plasmas
- Study of power balance in electronegative capacitively coupled plasmas
- Laser enhanced polymer etching in different ambients
- Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma
- Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
- Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas