Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2 (1993)
- Authors:
- USP affiliated authors: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP ; FRANZIN, RENATO MARCELO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
-
ABNT
FRANZIN, Renato Marcelo e VERDONCK, Patrick Bernard. Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2. 1993, Anais.. Recife: Ufpe, 1993. . Acesso em: 22 fev. 2026. -
APA
Franzin, R. M., & Verdonck, P. B. (1993). Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2. In Resumos. Recife: Ufpe. -
NLM
Franzin RM, Verdonck PB. Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2. Resumos. 1993 ;[citado 2026 fev. 22 ] -
Vancouver
Franzin RM, Verdonck PB. Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2. Resumos. 1993 ;[citado 2026 fev. 22 ] - The influence of electrode material on argon plasmas
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