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Artigo de periodico
Two-dimensional ferromagnetic extension of a topological insulator (2023)
Kagerer, Philipp ; Morelhão, Sergio L.
Source: Physical Review Research. Unidade: IF
Subjects: MATERIAIS, MATERIAIS MAGNÉTICOS, ESTRUTURA ELETRÔNICA, FERROMAGNETISMO, MEDIDA DE LEBESGUE
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ABNT
KAGERER, Philipp e MORELHÃO, Sergio L. Two-dimensional ferromagnetic extension of a topological insulator. Physical Review Research, v. 5, n. 2, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1103/PhysRevResearch.5.L022019. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Kagerer, P., & Morelhão, S. L. (2023). Two-dimensional ferromagnetic extension of a topological insulator. Physical Review Research, 5( 2). doi:10.1103/PhysRevResearch.5.L022019
NLM
Kagerer P, Morelhão SL. Two-dimensional ferromagnetic extension of a topological insulator [Internet]. Physical Review Research. 2023 ; 5( 2):[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1103/PhysRevResearch.5.L022019
Vancouver
Kagerer P, Morelhão SL. Two-dimensional ferromagnetic extension of a topological insulator [Internet]. Physical Review Research. 2023 ; 5( 2):[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1103/PhysRevResearch.5.L022019
Artigo de periodico
Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase (2023)
Singh, Hardepinder; Gupta, Mukul; Gupta, Pooja; Penacchio, Rafaela ; Morelhao, Sergio L. ; Kumar, Hardeep
Source: Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, TUNGSTÊNIO, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
SINGH, Hardepinder et al. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A), v. 129, n. 5, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Singh, H., Gupta, M., Gupta, P., Penacchio, R., Morelhao, S. L., & Kumar, H. (2023). Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A), 129( 5). doi:10.1007/s00339-023-06552-x
NLM
Singh H, Gupta M, Gupta P, Penacchio R, Morelhao SL, Kumar H. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase [Internet]. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). 2023 ; 129( 5):[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x
Vancouver
Singh H, Gupta M, Gupta P, Penacchio R, Morelhao SL, Kumar H. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase [Internet]. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). 2023 ; 129( 5):[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x
Artigo de periodico
Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator (2022)
Penacchio, Rafaela Felix da Silva ; Fornari, Celso I.; Camillo, Yorí G.; Kagerer, Philipp; Buchberger, Sebastian; Kamp, Martin; Bentmann, Hendrik; Reinert, Friedrich; Morelhão, Sergio Luiz
Source: Thin Solid Films. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR, CAMPO MAGNÉTICO
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ABNT
PENACCHIO, Rafaela Felix da Silva et al. Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator. Thin Solid Films, v. 750, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139183. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Penacchio, R. F. da S., Fornari, C. I., Camillo, Y. G., Kagerer, P., Buchberger, S., Kamp, M., et al. (2022). Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator. Thin Solid Films, 750. doi:10.1016/j.tsf.2022.139183
NLM
Penacchio RF da S, Fornari CI, Camillo YG, Kagerer P, Buchberger S, Kamp M, Bentmann H, Reinert F, Morelhão SL. Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator [Internet]. Thin Solid Films. 2022 ; 750[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139183
Vancouver
Penacchio RF da S, Fornari CI, Camillo YG, Kagerer P, Buchberger S, Kamp M, Bentmann H, Reinert F, Morelhão SL. Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator [Internet]. Thin Solid Films. 2022 ; 750[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139183
Artigo de periodico
Structural and magnetic properties of FeRh films grown on MgO(001) MgO(011) and MgO(111) substrates (2022)
Kumar, Hardeep; Morelhão, Sergio Luiz ; Pessotto, Gerson ; Singh, Hardepinder; Sinha, Anil K.; Cornejo, Daniel Reinaldo
Source: Journal of Magnetism and Magnetic Materials. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, RADIAÇÃO SINCROTRON, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
KUMAR, Hardeep et al. Structural and magnetic properties of FeRh films grown on MgO(001) MgO(011) and MgO(111) substrates. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, v. 556, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2022.169442. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Kumar, H., Morelhão, S. L., Pessotto, G., Singh, H., Sinha, A. K., & Cornejo, D. R. (2022). Structural and magnetic properties of FeRh films grown on MgO(001) MgO(011) and MgO(111) substrates. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 556. doi:10.1016/j.jmmm.2022.169442
NLM
Kumar H, Morelhão SL, Pessotto G, Singh H, Sinha AK, Cornejo DR. Structural and magnetic properties of FeRh films grown on MgO(001) MgO(011) and MgO(111) substrates [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2022 ; 556[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2022.169442
Vancouver
Kumar H, Morelhão SL, Pessotto G, Singh H, Sinha AK, Cornejo DR. Structural and magnetic properties of FeRh films grown on MgO(001) MgO(011) and MgO(111) substrates [Internet]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2022 ; 556[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2022.169442
Artigo de periodico
A simple formula for determining nanoparticle size distribution by combining small-angle X-ray scattering and diffraction results (2022)
Sergio L. Morelhão ; Kycia, Stefan
Source: Acta Crystallographica Section A: Foundations and Advances. Unidade: IF
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, NANOPARTÍCULAS, ESPALHAMENTO DE RAIOS X A BAIXOS ÂNGULOS, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS
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ABNT
SERGIO L. MORELHÃO, e KYCIA, Stefan. A simple formula for determining nanoparticle size distribution by combining small-angle X-ray scattering and diffraction results. Acta Crystallographica Section A: Foundations and Advances, v. 78, n. 1, p. 459-462, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/S2053273322007215. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Sergio L. Morelhão,, & Kycia, S. (2022). A simple formula for determining nanoparticle size distribution by combining small-angle X-ray scattering and diffraction results. Acta Crystallographica Section A: Foundations and Advances, 78( 1), 459-462. doi:10.1107/S2053273322007215
NLM
Sergio L. Morelhão, Kycia S. A simple formula for determining nanoparticle size distribution by combining small-angle X-ray scattering and diffraction results [Internet]. Acta Crystallographica Section A: Foundations and Advances. 2022 ; 78( 1): 459-462.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S2053273322007215
Vancouver
Sergio L. Morelhão, Kycia S. A simple formula for determining nanoparticle size distribution by combining small-angle X-ray scattering and diffraction results [Internet]. Acta Crystallographica Section A: Foundations and Advances. 2022 ; 78( 1): 459-462.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S2053273322007215
Relatorio tecnico
Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films (2020)
Morelhão, Sergio Luiz ; Kycia, Stefan; Netzke, Samuel; Fornari, Celso I.; Rappl, Paulo H. O.; Abramof, Eduardo
Unidade: IF
Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, SEMICONDUTORES, CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X
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ABNT
MORELHÃO, Sergio Luiz et al. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. . Melville: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Morelhão, S. L., Kycia, S., Netzke, S., Fornari, C. I., Rappl, P. H. O., & Abramof, E. (2020). Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. Melville: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
NLM
Morelhão SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
Vancouver
Morelhão SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
Relatorio tecnico
Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators (2020)
Fornari, Celso I; Abramof, Eduardo; Rappl, Paulo H O; Kycia, Stefan W; Morelhão, Sergio Luiz
Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, BISMUTO
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ABNT
FORNARI, Celso I et al. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Fornari, C. I., Abramof, E., Rappl, P. H. O., Kycia, S. W., & Morelhão, S. L. (2020). Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
NLM
Fornari CI, Abramof E, Rappl PHO, Kycia SW, Morelhão SL. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
Vancouver
Fornari CI, Abramof E, Rappl PHO, Kycia SW, Morelhão SL. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
Relatorio tecnico
Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique (2020)
Hönnicke, Marcelo G.; Morelhão, Sergio Luiz
Unidade: IF
Subjects: CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, RADIAÇÃO SINCROTRON, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
HÖNNICKE, Marcelo G. e MORELHÃO, Sergio Luiz. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Hönnicke, M. G., & Morelhão, S. L. (2020). Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
NLM
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Vancouver
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Artigo de periodico
Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela Felix da Silva ; Estradiote, Maurício B.; Cantarino, Marli dos Reis ; Garcia, F. A. ; Morelhao, Sergio L. ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W.; Calligaris, Guilherme A.; Remédios, Cláudio M.R.
Source: MRS Communications. Unidade: IF
Subjects: CRISTALOGRAFIA FÍSICA, TERMOANÁLISE, RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALERIO, Adriana et al. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. MRS Communications, v. 10, n. 2, p. 265-271, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. da S., Estradiote, M. B., Cantarino, M. dos R., Garcia, F. A., Morelhao, S. L., et al. (2020). Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. MRS Communications, 10( 2), 265-271. doi:10.1557/mrc.2020.37
NLM
Valerio A, Penacchio RF da S, Estradiote MB, Cantarino M dos R, Garcia FA, Morelhao SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. MRS Communications. 2020 ; 10( 2): 265-271.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37
Vancouver
Valerio A, Penacchio RF da S, Estradiote MB, Cantarino M dos R, Garcia FA, Morelhao SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. MRS Communications. 2020 ; 10( 2): 265-271.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37
Trabalho de evento-resumo
Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources (2020)
Estradiote, Maurício B; Penacchio, Rafaela F S; Valério, Adriana; Morelhão, Sergio Luiz
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: RADIAÇÃO SINCROTRON
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ABNT
ESTRADIOTE, Maurício B et al. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Estradiote, M. B., Penacchio, R. F. S., Valério, A., & Morelhão, S. L. (2020). Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
NLM
Estradiote MB, Penacchio RFS, Valério A, Morelhão SL. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
Vancouver
Estradiote MB, Penacchio RFS, Valério A, Morelhão SL. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F S; Estradiote, Maurício B; Cantarino, Marli R; Garcia, Fernando A; Morelhão, Sergio Luiz ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W; Calligaris, Guilherme A; Remédios, Claudio M R
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALERIO, Adriana et al. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., Estradiote, M. B., Cantarino, M. R., Garcia, F. A., Morelhão, S. L., et al. (2020). Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino MR, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino MR, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F S; Morelhão, Sergio Luiz
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALERIO, Adriana e PENACCHIO, Rafaela F S e MORELHÃO, Sergio Luiz. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., & Morelhão, S. L. (2020). Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Morelhão SL. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Morelhão SL. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
Relatorio tecnico
Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F.S.; Estradiote, Maurício B.; Cantarino, Marli ; Garcia, F. A. ; Morelhão, Sergio Luiz ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W.; Calligaris, Guilherme A.; Remédios, Cláudio M.R.
Unidade: IF
Subjects: CRISTALOGRAFIA FÍSICA, TERMOANÁLISE, RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALERIO, Adriana et al. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., Estradiote, M. B., Cantarino, M., Garcia, F. A., Morelhão, S. L., et al. (2020). Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino M, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino M, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
Relatorio tecnico
Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning (2020)
Morelhão, Sergio Luiz ; Avanci, L H; Freitas, R; Quivy, Alain André
Unidade: IF
Subjects: MICROELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, NANOTECNOLOGIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORELHÃO, Sergio Luiz et al. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. . Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Freitas, R., & Quivy, A. A. (2020). Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
NLM
Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
Vancouver
Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
Artigo de periodico
Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique (2020)
Hönnicke, Marcelo G.; Morelhão, Sérgio L.
Source: Radiation Physics and Chemistry. Unidade: IF
Subjects: CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, RADIAÇÃO SINCROTRON, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
HÖNNICKE, Marcelo G. e MORELHÃO, Sérgio L. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. Radiation Physics and Chemistry, v. 167, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Hönnicke, M. G., & Morelhão, S. L. (2020). Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. Radiation Physics and Chemistry, 167. doi:10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
NLM
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. Radiation Physics and Chemistry. 2020 ; 167[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Vancouver
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. Radiation Physics and Chemistry. 2020 ; 167[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Artigo de periodico
New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies (2020)
Cordeiro,A J P; Silva, L F da; Paschoal Jr., W; Morelhão, Sergio Luiz ; Saraiva, G D; Freire, P T C; Moreira, S G C; Sousa, F F de
Source: Vibrational Spectroscopy. Unidade: IF
Subjects: MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, TRANSFORMADA DE FOURIER, ESPECTROSCOPIA RAMAN
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ABNT
CORDEIRO, A J P et al. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies. Vibrational Spectroscopy, v. 111, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Cordeiro, A. J. P., Silva, L. F. da, Paschoal Jr., W., Morelhão, S. L., Saraiva, G. D., Freire, P. T. C., et al. (2020). New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies. Vibrational Spectroscopy, 111. doi:10.1016/j.vibspec.2020.103174
NLM
Cordeiro AJP, Silva LF da, Paschoal Jr. W, Morelhão SL, Saraiva GD, Freire PTC, Moreira SGC, Sousa FF de. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies [Internet]. Vibrational Spectroscopy. 2020 ; 111[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174
Vancouver
Cordeiro AJP, Silva LF da, Paschoal Jr. W, Morelhão SL, Saraiva GD, Freire PTC, Moreira SGC, Sousa FF de. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies [Internet]. Vibrational Spectroscopy. 2020 ; 111[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174
Artigo de periodico
Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films (2020)
Fornari, Celso I; Morelhão, Sergio Luiz
Source: Journal of Physical Chemistry C. Unidade: IF
Subjects: EURÓPIO, EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
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ABNT
FORNARI, Celso I e MORELHÃO, Sergio Luiz. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films. Journal of Physical Chemistry C, v. 124, n. 29, p. 16048–16057, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Fornari, C. I., & Morelhão, S. L. (2020). Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films. Journal of Physical Chemistry C, 124( 29), 16048–16057. doi:10.1021/acs.jpcc.0c05077
NLM
Fornari CI, Morelhão SL. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films [Internet]. Journal of Physical Chemistry C. 2020 ; 124( 29): 16048–16057.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077
Vancouver
Fornari CI, Morelhão SL. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films [Internet]. Journal of Physical Chemistry C. 2020 ; 124( 29): 16048–16057.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077
Apresentacao sonora/cenica/entrevista
O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] (2020)
Morelhao, Sergio L.
Source: IFUSP-Física para Todos. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA MODERNA, NEUROCIÊNCIAS, MECÂNICA QUÂNTICA, REDES NEURAIS, DIVULGAÇÃO CIENTÍFICA
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ABNT
MORELHAO, Sergio L. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra]. IFUSP-Física para Todos. São Paulo: IFUSP. Disponível em: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be. Acesso em: 23 jun. 2024. , 2020
APA
Morelhao, S. L. (2020). O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra]. IFUSP-Física para Todos. São Paulo: IFUSP. Recuperado de https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
NLM
Morelhao SL. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] [Internet]. IFUSP-Física para Todos. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
Vancouver
Morelhao SL. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] [Internet]. IFUSP-Física para Todos. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
Artigo de periodico
Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles (2020)
Cabral, Alex J Freitas; Valerio, Adriana; Morelhão, Sergio Luiz ; Checca, Noemi R; Soares, Marcio M; Remedios, Claudio M R
Source: Crystal Growth Design. Unidade: IF
Assunto: NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CABRAL, Alex J Freitas et al. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles. Crystal Growth Design, v. 20, p. 600−607, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Cabral, A. J. F., Valerio, A., Morelhão, S. L., Checca, N. R., Soares, M. M., & Remedios, C. M. R. (2020). Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles. Crystal Growth Design, 20, 600−607. doi:10.1021/acs.cgd.9b00896
NLM
Cabral AJF, Valerio A, Morelhão SL, Checca NR, Soares MM, Remedios CMR. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles [Internet]. Crystal Growth Design. 2020 ; 20 600−607.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896
Vancouver
Cabral AJF, Valerio A, Morelhão SL, Checca NR, Soares MM, Remedios CMR. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles [Internet]. Crystal Growth Design. 2020 ; 20 600−607.[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896
Trabalho de evento-resumo
Computational tools for structural modeling of quantum devices (2020)
Silva, Yorí Galisteu Camillo da; Morelhão, Sergio Luiz
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Subjects: ELETRÔNICA, ÓPTICA ELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Yorí Galisteu Camillo da e MORELHÃO, Sergio Luiz. Computational tools for structural modeling of quantum devices. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf. Acesso em: 23 jun. 2024.
APA
Silva, Y. G. C. da, & Morelhão, S. L. (2020). Computational tools for structural modeling of quantum devices. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf
NLM
Silva YGC da, Morelhão SL. Computational tools for structural modeling of quantum devices [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf
Vancouver
Silva YGC da, Morelhão SL. Computational tools for structural modeling of quantum devices [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 23 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf

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