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Trabalho de evento
Fabrication of silicon probes for biosensors (2000)
Fontes, Marcelo Bariatto Andrade; Furlan, Rogério ; Santiago-Avilés, Jorge Juan ; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: SBMicro 2000 : proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
FONTES, Marcelo Bariatto Andrade et al. Fabrication of silicon probes for biosensors. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Fontes, M. B. A., Furlan, R., Santiago-Avilés, J. J., & Mansano, R. D. (2000). Fabrication of silicon probes for biosensors. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Fontes MBA, Furlan R, Santiago-Avilés JJ, Mansano RD. Fabrication of silicon probes for biosensors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Fontes MBA, Furlan R, Santiago-Avilés JJ, Mansano RD. Fabrication of silicon probes for biosensors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento
Characteristics of silicon nitride films deposited by inductively coulped plasma CVD (2000)
Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Furlan, Rogério
Source: SBMicro 2000: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e MANSANO, Ronaldo Domingues e FURLAN, Rogério. Characteristics of silicon nitride films deposited by inductively coulped plasma CVD. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Zambom, L. da S., Mansano, R. D., & Furlan, R. (2000). Characteristics of silicon nitride films deposited by inductively coulped plasma CVD. In SBMicro 2000: proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R. Characteristics of silicon nitride films deposited by inductively coulped plasma CVD. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R. Characteristics of silicon nitride films deposited by inductively coulped plasma CVD. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna (2000)
Massi, Marcos; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago; Cirino, Giuseppe Antonio; Castro, Raul Murete de; Pisani, Marcelo B.
Source: Solid-State Devices and Circuits. Unidade: EP
Assunto: ANTENAS
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ABNT
MASSI, Marcos et al. Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna. Solid-State Devices and Circuits, v. 8, n. 1, p. 1-4, 2000Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Massi, M., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Maciel, H. S., Cirino, G. A., Castro, R. M. de, & Pisani, M. B. (2000). Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna. Solid-State Devices and Circuits, 8( 1), 1-4.
NLM
Massi M, Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS, Cirino GA, Castro RM de, Pisani MB. Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna. Solid-State Devices and Circuits. 2000 ; 8( 1): 1-4.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Massi M, Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS, Cirino GA, Castro RM de, Pisani MB. Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna. Solid-State Devices and Circuits. 2000 ; 8( 1): 1-4.[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering (2000)
Castro, Ricardo A; Chubaci, Jose Fernando Diniz; Matsuoka, Masao; Watanabe, S.; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
CASTRO, Ricardo A et al. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. 2000, Anais.. São Paulo: SBF, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Castro, R. A., Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Watanabe, S., & Mansano, R. D. (2000). Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. In Resumos. São Paulo: SBF.
NLM
Castro RA, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Mansano RD. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Castro RA, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Mansano RD. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes (2000)
Castro, Raul Murete de; Verdonck, Patrick Bernard; Pisani, Marcelo B.; Mansano, Ronaldo Domingues ; Cirino, Giuseppe Antonio; Maciel, Homero Santiago; Massi, Marcos
Source: IEEE Transactions on Plasma Science. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
CASTRO, Raul Murete de et al. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes. IEEE Transactions on Plasma Science, v. 28, n. Ju 2000, p. 1043-1049, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/27.887774. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Castro, R. M. de, Verdonck, P. B., Pisani, M. B., Mansano, R. D., Cirino, G. A., Maciel, H. S., & Massi, M. (2000). End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes. IEEE Transactions on Plasma Science, 28( Ju 2000), 1043-1049. doi:10.1109/27.887774
NLM
Castro RM de, Verdonck PB, Pisani MB, Mansano RD, Cirino GA, Maciel HS, Massi M. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes [Internet]. IEEE Transactions on Plasma Science. 2000 ; 28( Ju 2000): 1043-1049.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1109/27.887774
Vancouver
Castro RM de, Verdonck PB, Pisani MB, Mansano RD, Cirino GA, Maciel HS, Massi M. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes [Internet]. IEEE Transactions on Plasma Science. 2000 ; 28( Ju 2000): 1043-1049.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1109/27.887774
Trabalho de evento-resumo
Análise de elementos leves através de um sistema ERDA alternativo no Laboratório Pelletron-IFUSP (2000)
Added, Nemitala; Chubaci, Jose Fernando Diniz; Matsuoka, Masao; Pinto, Ricardo Alexander Castro; Alonso, Edson; Liguori Neto, Raphael; Rizzutto, Marcia de Almeida; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
ADDED, Nemitala et al. Análise de elementos leves através de um sistema ERDA alternativo no Laboratório Pelletron-IFUSP. 2000, Anais.. São Paulo: SBF, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Added, N., Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Pinto, R. A. C., Alonso, E., Liguori Neto, R., et al. (2000). Análise de elementos leves através de um sistema ERDA alternativo no Laboratório Pelletron-IFUSP. In Resumos. São Paulo: SBF.
NLM
Added N, Chubaci JFD, Matsuoka M, Pinto RAC, Alonso E, Liguori Neto R, Rizzutto M de A, Mansano RD. Análise de elementos leves através de um sistema ERDA alternativo no Laboratório Pelletron-IFUSP. Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Added N, Chubaci JFD, Matsuoka M, Pinto RAC, Alonso E, Liguori Neto R, Rizzutto M de A, Mansano RD. Análise de elementos leves através de um sistema ERDA alternativo no Laboratório Pelletron-IFUSP. Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento
Fabrication of a continuous parabolic surface relief array using a silicon-based wet-etch micromachining (2000)
Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Lichti, Paulo Aneas; Stefani, M. A.; Gonçalves Neto, Luiz
Conference titles: Optical Fabrication and Testing 2000. Unidades: EESC, EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, USINAGEM, SILICONE, ÓPTICA, PROCESSOS DE FABRICAÇÃO
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ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio et al. Fabrication of a continuous parabolic surface relief array using a silicon-based wet-etch micromachining. 2000, Anais.. Washington, DC, USA: OSA Publishing, 2000. Disponível em: https://doi.org/10.1364/OFT.2000.OMB3. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Cirino, G. A., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Lichti, P. A., Stefani, M. A., & Gonçalves Neto, L. (2000). Fabrication of a continuous parabolic surface relief array using a silicon-based wet-etch micromachining. In . Washington, DC, USA: OSA Publishing. doi:10.1364/OFT.2000.OMB3
NLM
Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Lichti PA, Stefani MA, Gonçalves Neto L. Fabrication of a continuous parabolic surface relief array using a silicon-based wet-etch micromachining [Internet]. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1364/OFT.2000.OMB3
Vancouver
Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Lichti PA, Stefani MA, Gonçalves Neto L. Fabrication of a continuous parabolic surface relief array using a silicon-based wet-etch micromachining [Internet]. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1364/OFT.2000.OMB3
Tese (Doutorado)
Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2000)
Zambom, Luís da Silva ; Furlan, Rogério (Orientador) ; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, FILMES FINOS, PLASMA
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2000. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-084447/pt-br.php. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Zambom, L. da S. (2000). Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-084447/pt-br.php
NLM
Zambom L da S. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-084447/pt-br.php
Vancouver
Zambom L da S. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-084447/pt-br.php
Trabalho de evento
Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate (2000)
Cardona, P S P; Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard
Source: technical digest. Conference titles: Diffractive Optics and Micro-Optics Conference. Unidade: EP
Assunto: ÓPTICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARDONA, P S P et al. Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate. 2000, Anais.. Quebec: Optical Society of America, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Cardona, P. S. P., Cirino, G. A., Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (2000). Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate. In technical digest. Quebec: Optical Society of America.
NLM
Cardona PSP, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB. Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate. technical digest. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Cardona PSP, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB. Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate. technical digest. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Relatorio tecnico
Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2000)
Zambom, Luís da Silva ; Furlan, Rogério ; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Assunto: LASER
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e FURLAN, Rogério e MANSANO, Ronaldo Domingues. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 05 nov. 2024. , 2000
APA
Zambom, L. da S., Furlan, R., & Mansano, R. D. (2000). Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. São Paulo: EPUSP.
NLM
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Relatorio tecnico
Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing (2000)
Jaramillo Ocampo, Juan Manuel; Mansano, Ronaldo Domingues ; Charry Rodriguez, Edgar
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
JARAMILLO OCAMPO, Juan Manuel e MANSANO, Ronaldo Domingues e CHARRY RODRIGUEZ, Edgar. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 05 nov. 2024. , 2000
APA
Jaramillo Ocampo, J. M., Mansano, R. D., & Charry Rodriguez, E. (2000). Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. São Paulo: EPUSP.
NLM
Jaramillo Ocampo JM, Mansano RD, Charry Rodriguez E. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Jaramillo Ocampo JM, Mansano RD, Charry Rodriguez E. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Application of fluorine based plasma etching processes in microfluidic device fabrication (2000)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério
Source: Journal of Solid-State Devices and Circuits. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Application of fluorine based plasma etching processes in microfluidic device fabrication. Journal of Solid-State Devices and Circuits, v. 8, n. 1, p. 5-9, 2000Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Simões, E. W., & Furlan, R. (2000). Application of fluorine based plasma etching processes in microfluidic device fabrication. Journal of Solid-State Devices and Circuits, 8( 1), 5-9.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Simões EW, Furlan R. Application of fluorine based plasma etching processes in microfluidic device fabrication. Journal of Solid-State Devices and Circuits. 2000 ; 8( 1): 5-9.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Simões EW, Furlan R. Application of fluorine based plasma etching processes in microfluidic device fabrication. Journal of Solid-State Devices and Circuits. 2000 ; 8( 1): 5-9.[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento
A new mechanism for silicon etching with fluorine based plasmas (2000)
Verdonck, Patrick Bernard; Goodyear, A.; Mansano, Ronaldo Domingues ; Barroy, P.R.J.; Braithwaite, N.St.J.
Source: SBMicro 2000: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. A new mechanism for silicon etching with fluorine based plasmas. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Goodyear, A., Mansano, R. D., Barroy, P. R. J., & Braithwaite, N. S. J. (2000). A new mechanism for silicon etching with fluorine based plasmas. In SBMicro 2000: proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Verdonck PB, Goodyear A, Mansano RD, Barroy PRJ, Braithwaite NSJ. A new mechanism for silicon etching with fluorine based plasmas. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Verdonck PB, Goodyear A, Mansano RD, Barroy PRJ, Braithwaite NSJ. A new mechanism for silicon etching with fluorine based plasmas. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering (2000)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Zambom, Luís da Silva ; Verdonck, Patrick Bernard; Nogueira, P. M.; Maciel, H. S.; Otani, Choyu
Source: Thin Solid Films. Unidade: EP
Assunto: FILMES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering. Thin Solid Films, n. 373, p. 243-246, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Mansano, R. D., Massi, M., Zambom, L. da S., Verdonck, P. B., Nogueira, P. M., Maciel, H. S., & Otani, C. (2000). Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering. Thin Solid Films, ( 373), 243-246. doi:10.1016/s0040-6090(00)01088-9
NLM
Mansano RD, Massi M, Zambom L da S, Verdonck PB, Nogueira PM, Maciel HS, Otani C. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2000 ;( 373): 243-246.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9
Vancouver
Mansano RD, Massi M, Zambom L da S, Verdonck PB, Nogueira PM, Maciel HS, Otani C. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2000 ;( 373): 243-246.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9
Trabalho de evento-resumo
Fabricação de microbocais sônicos de diamante (2000)
Silva, S; Mansano, Ronaldo Domingues ; Passaro, Angela Maria Pizzo; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira
Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidade: IF
Assunto: ÓPTICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, S et al. Fabricação de microbocais sônicos de diamante. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Silva, S., Mansano, R. D., Passaro, A. M. P., & Salvadori, M. C. B. da S. (2000). Fabricação de microbocais sônicos de diamante. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
NLM
Silva S, Mansano RD, Passaro AMP, Salvadori MCB da S. Fabricação de microbocais sônicos de diamante. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Silva S, Mansano RD, Passaro AMP, Salvadori MCB da S. Fabricação de microbocais sônicos de diamante. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]

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