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Trabalho de evento
Metodo simples para a obtencao da densidade de armadilhas na primeira e segunda interface em soi-mosfet (1994)
Sonnenberg, Victor ; Martino, João Antonio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
SONNENBERG, Victor e MARTINO, João Antonio. Metodo simples para a obtencao da densidade de armadilhas na primeira e segunda interface em soi-mosfet. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Sonnenberg, V., & Martino, J. A. (1994). Metodo simples para a obtencao da densidade de armadilhas na primeira e segunda interface em soi-mosfet. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Sonnenberg V, Martino JA. Metodo simples para a obtencao da densidade de armadilhas na primeira e segunda interface em soi-mosfet. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Sonnenberg V, Martino JA. Metodo simples para a obtencao da densidade de armadilhas na primeira e segunda interface em soi-mosfet. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Transistor soi-nmosfet nao auto-alinhado (1994)
Nicolett, Aparecido Sirley; Martino, João Antonio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: TRANSISTORES
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ABNT
NICOLETT, Aparecido Sirley e MARTINO, João Antonio. Transistor soi-nmosfet nao auto-alinhado. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Nicolett, A. S., & Martino, J. A. (1994). Transistor soi-nmosfet nao auto-alinhado. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Nicolett AS, Martino JA. Transistor soi-nmosfet nao auto-alinhado. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Nicolett AS, Martino JA. Transistor soi-nmosfet nao auto-alinhado. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Desenvolvimento de um receptor de comunicacao por espalhamento espectral usando logica programavel (1994)
Amazonas, José Roberto de Almeida ; Ferreira, R O
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS ELETRÔNICOS
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AMAZONAS, José Roberto de Almeida e FERREIRA, R O. Desenvolvimento de um receptor de comunicacao por espalhamento espectral usando logica programavel. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Amazonas, J. R. de A., & Ferreira, R. O. (1994). Desenvolvimento de um receptor de comunicacao por espalhamento espectral usando logica programavel. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Amazonas JR de A, Ferreira RO. Desenvolvimento de um receptor de comunicacao por espalhamento espectral usando logica programavel. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Amazonas JR de A, Ferreira RO. Desenvolvimento de um receptor de comunicacao por espalhamento espectral usando logica programavel. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Xdr - uma ferramenta para sintese automatica de circuitos integrados para processamento de sinais digitais (1994)
Cesario, W O; Valle Neto, J V
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
CESARIO, W O e VALLE NETO, J V. Xdr - uma ferramenta para sintese automatica de circuitos integrados para processamento de sinais digitais. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Cesario, W. O., & Valle Neto, J. V. (1994). Xdr - uma ferramenta para sintese automatica de circuitos integrados para processamento de sinais digitais. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Cesario WO, Valle Neto JV. Xdr - uma ferramenta para sintese automatica de circuitos integrados para processamento de sinais digitais. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Cesario WO, Valle Neto JV. Xdr - uma ferramenta para sintese automatica de circuitos integrados para processamento de sinais digitais. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2 (1994)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (1994). Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Modelamento da juncao pn para solicitacoes transientes (1994)
Perez Lisboa, M O; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
PEREZ LISBOA, M O e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Modelamento da juncao pn para solicitacoes transientes. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Perez Lisboa, M. O., & Ramírez Fernandez, F. J. (1994). Modelamento da juncao pn para solicitacoes transientes. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Perez Lisboa MO, Ramírez Fernandez FJ. Modelamento da juncao pn para solicitacoes transientes. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Perez Lisboa MO, Ramírez Fernandez FJ. Modelamento da juncao pn para solicitacoes transientes. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Estudo da formacao do disiliceto de cobalto em duas etapas termicas (1994)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner e FURLAN, Rogério. Estudo da formacao do disiliceto de cobalto em duas etapas termicas. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Simões, E. W., & Furlan, R. (1994). Estudo da formacao do disiliceto de cobalto em duas etapas termicas. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Simões EW, Furlan R. Estudo da formacao do disiliceto de cobalto em duas etapas termicas. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R. Estudo da formacao do disiliceto de cobalto em duas etapas termicas. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd (1994)
Bonfim, M J C; Okura, J H; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
BONFIM, M J C e OKURA, J H e SWART, Jacobus Willibrordus. Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Bonfim, M. J. C., Okura, J. H., & Swart, J. W. (1994). Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Bonfim MJC, Okura JH, Swart JW. Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Bonfim MJC, Okura JH, Swart JW. Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Sensor de radiacao ionizante de baixa energia (1994)
Pereira, M R; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
PEREIRA, M R e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Sensor de radiacao ionizante de baixa energia. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Pereira, M. R., & Ramírez Fernandez, F. J. (1994). Sensor de radiacao ionizante de baixa energia. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Pereira MR, Ramírez Fernandez FJ. Sensor de radiacao ionizante de baixa energia. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Pereira MR, Ramírez Fernandez FJ. Sensor de radiacao ionizante de baixa energia. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS' (1994)
Seki, J; Pereira, J A A M; Saito, M
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SEKI, J e PEREIRA, J A A M e SAITO, M. Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS'. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Seki, J., Pereira, J. A. A. M., & Saito, M. (1994). Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS'. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Seki J, Pereira JAAM, Saito M. Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS'. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Seki J, Pereira JAAM, Saito M. Determinacao de parametros de processo para fotomascara 'BALZERS'. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Nova tecnica de decomposicao de maquinas de estados finitos (1994)
Llanos Quintero, Carlos Humberto; Strum, Marius
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LLANOS QUINTERO, Carlos Humberto e STRUM, Marius. Nova tecnica de decomposicao de maquinas de estados finitos. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Llanos Quintero, C. H., & Strum, M. (1994). Nova tecnica de decomposicao de maquinas de estados finitos. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Llanos Quintero CH, Strum M. Nova tecnica de decomposicao de maquinas de estados finitos. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Llanos Quintero CH, Strum M. Nova tecnica de decomposicao de maquinas de estados finitos. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Effect of the temperature cooling rate on the 'SI' / 'SI''O IND.2' interface roughness after rapid thermal oxidation (1994)
Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Lopes, M C V; Hasenack, Claus Martin; Baranauskas, V
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos et al. Effect of the temperature cooling rate on the 'SI' / 'SI''O IND.2' interface roughness after rapid thermal oxidation. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Santos Filho, S. G. dos, Lopes, M. C. V., Hasenack, C. M., & Baranauskas, V. (1994). Effect of the temperature cooling rate on the 'SI' / 'SI''O IND.2' interface roughness after rapid thermal oxidation. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Santos Filho SG dos, Lopes MCV, Hasenack CM, Baranauskas V. Effect of the temperature cooling rate on the 'SI' / 'SI''O IND.2' interface roughness after rapid thermal oxidation. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Santos Filho SG dos, Lopes MCV, Hasenack CM, Baranauskas V. Effect of the temperature cooling rate on the 'SI' / 'SI''O IND.2' interface roughness after rapid thermal oxidation. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
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Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures (1994)
Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e MANSANO, Ronaldo Domingues. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., & Mansano, R. D. (1994). Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Degradacao da condutividade eletrica do silicio poroso (1994)
Salcedo, Walter Jaimes ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Galeazzo, Elisabete
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SALCEDO, Walter Jaimes e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier e GALEAZZO, Elisabete. Degradacao da condutividade eletrica do silicio poroso. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Salcedo, W. J., Ramírez Fernandez, F. J., & Galeazzo, E. (1994). Degradacao da condutividade eletrica do silicio poroso. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Salcedo WJ, Ramírez Fernandez FJ, Galeazzo E. Degradacao da condutividade eletrica do silicio poroso. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Salcedo WJ, Ramírez Fernandez FJ, Galeazzo E. Degradacao da condutividade eletrica do silicio poroso. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfa (1994)
Leite, N G; Hasenack, Claus Martin
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LEITE, N G e HASENACK, Claus Martin. Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfa. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Leite, N. G., & Hasenack, C. M. (1994). Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfa. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Leite NG, Hasenack CM. Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfa. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Leite NG, Hasenack CM. Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfa. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Trxfa: uma tecnica de analise somente para microeletronica (1994)
Hasenack, Claus Martin; Leite, N G
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
HASENACK, Claus Martin e LEITE, N G. Trxfa: uma tecnica de analise somente para microeletronica. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Hasenack, C. M., & Leite, N. G. (1994). Trxfa: uma tecnica de analise somente para microeletronica. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Hasenack CM, Leite NG. Trxfa: uma tecnica de analise somente para microeletronica. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Hasenack CM, Leite NG. Trxfa: uma tecnica de analise somente para microeletronica. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas (1994)
Verdonck, Patrick Bernard; Swart, Jacobus Willibrordus; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ordonez, N
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Swart, J. W., Mansano, R. D., & Ordonez, N. (1994). Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge (1994)
Yoshioka, R T; Tatsch, P J; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
YOSHIOKA, R T e TATSCH, P J e SWART, Jacobus Willibrordus. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Yoshioka, R. T., Tatsch, P. J., & Swart, J. W. (1994). Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Sensor de umidade implementado com diodo schottky sobre silicio poroso (1994)
Salcedo, Walter Jaimes ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SALCEDO, Walter Jaimes e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Sensor de umidade implementado com diodo schottky sobre silicio poroso. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Salcedo, W. J., & Ramírez Fernandez, F. J. (1994). Sensor de umidade implementado com diodo schottky sobre silicio poroso. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Salcedo WJ, Ramírez Fernandez FJ. Sensor de umidade implementado com diodo schottky sobre silicio poroso. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Salcedo WJ, Ramírez Fernandez FJ. Sensor de umidade implementado com diodo schottky sobre silicio poroso. Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Dopant pipe diffusion along misfit dislocations in epitaxial 'SI' / 'SI' (Ge) (1994)
Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Rozogonyi, G A
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ROZOGONYI, G A. Dopant pipe diffusion along misfit dislocations in epitaxial 'SI' / 'SI' (Ge). 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Braga, N. L. de A., & Rozogonyi, G. A. (1994). Dopant pipe diffusion along misfit dislocations in epitaxial 'SI' / 'SI' (Ge). In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Braga NL de A, Rozogonyi GA. Dopant pipe diffusion along misfit dislocations in epitaxial 'SI' / 'SI' (Ge). Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Braga NL de A, Rozogonyi GA. Dopant pipe diffusion along misfit dislocations in epitaxial 'SI' / 'SI' (Ge). Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 02 ]

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