Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge (1994)
- Authors:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Ufrj
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 1994
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
YOSHIOKA, R T e TATSCH, P J e SWART, Jacobus Willibrordus. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 26 jan. 2026. -
APA
Yoshioka, R. T., Tatsch, P. J., & Swart, J. W. (1994). Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj. -
NLM
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2026 jan. 26 ] -
Vancouver
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2026 jan. 26 ] - Thin w film deposition and analysis of w / 'GA''AS' schottky diodes
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