Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido (1987)
- Authors:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Subjects: SILÍCIO; TRATAMENTO TÉRMICO
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1987
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
SOUZA, J. P. e HASEMACK, Claus Martin e SWART, Jacobus Willibrordus. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 13 fev. 2026. -
APA
Souza, J. P., Hasemack, C. M., & Swart, J. W. (1987). Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Souza JP, Hasemack CM, Swart JW. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2026 fev. 13 ] -
Vancouver
Souza JP, Hasemack CM, Swart JW. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2026 fev. 13 ] - Design and processing of hbts
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