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Trabalho de evento
Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica (2016)
Yoshioka, Leopoldo Rideki ; Galeazzo, Elisabete ; Nascimento, Vítor Heloiz
Source: Anais. Conference titles: Congresso de Graduação da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS ELÉTRICOS
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ABNT
YOSHIOKA, Leopoldo Rideki e GALEAZZO, Elisabete e NASCIMENTO, Vítor Heloiz. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica. 2016, Anais.. São Paulo: Pró-Reitoria de Graduação da Universidade de São Paulo, 2016. Disponível em: http://www.congressograduacao.usp.br. Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Yoshioka, L. R., Galeazzo, E., & Nascimento, V. H. (2016). Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica. In Anais. São Paulo: Pró-Reitoria de Graduação da Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.congressograduacao.usp.br
NLM
Yoshioka LR, Galeazzo E, Nascimento VH. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica [Internet]. Anais. 2016 ;[citado 2024 ago. 28 ] Available from: http://www.congressograduacao.usp.br
Vancouver
Yoshioka LR, Galeazzo E, Nascimento VH. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica [Internet]. Anais. 2016 ;[citado 2024 ago. 28 ] Available from: http://www.congressograduacao.usp.br
Trabalho de evento
Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Proceedings. Conference titles: International Meeting on Chemical Sensors. Unidade: EP
Assunto: SENSORES QUÍMICOS
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. 2008, Anais.. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2008. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. In Proceedings. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Silicon microtips sharpening method for field emission applications (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: IBERSENSOR 2008: Anais. Conference titles: Ibero-American Congress on Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. 2008, Anais.. São Paulo: IPT, 2008. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon microtips sharpening method for field emission applications. In IBERSENSOR 2008: Anais. São Paulo: IPT.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Artigo de periodico
Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Journal of Microelectrochemical Systems. Unidade: EP
Subjects: SEMICONDUTORES, SILÍCIO
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, v. 17, n. 5, p. 1263-1269, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743. Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, 17( 5), 1263-1269. doi:10.1109/JMEMS.2008.927743
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Trabalho de evento
Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices (2007)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Kopelvski, Maycon Max ; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: SBMicro 2007. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. 2007, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007. Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2766920. Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Kopelvski, M. M., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2007). Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society. doi:10.1149/1.2766920
NLM
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Vancouver
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Trabalho de evento
Integrated sensors and microsystems (2004)
Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Salcedo, Walter Jaimes ; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado
Source: NanoSemiMat-3.. Conference titles: Workshop on Semiconductor Nanodevices and Nanostructured Materials. Unidade: EP
Assunto: NANOTECNOLOGIA
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ABNT
RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier et al. Integrated sensors and microsystems. 2004, Anais.. Brasília: MCT, 2004. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Ramírez Fernandez, F. J., Salcedo, W. J., Galeazzo, E., & Peres, H. E. M. (2004). Integrated sensors and microsystems. In NanoSemiMat-3.. Brasília: MCT.
NLM
Ramírez Fernandez FJ, Salcedo WJ, Galeazzo E, Peres HEM. Integrated sensors and microsystems. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Ramírez Fernandez FJ, Salcedo WJ, Galeazzo E, Peres HEM. Integrated sensors and microsystems. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Porous silicon for gas sensor applications (2004)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: NanoSemiMat-3.. Conference titles: Workshop on Semiconductor Nanodevices and Nanostructured Materials. Unidade: EP
Assunto: NANOTECNOLOGIA
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ABNT
GALEAZZO, Elisabete e PERES, Henrique Estanislau Maldonado e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Porous silicon for gas sensor applications. 2004, Anais.. Brasília: MCT, 2004. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2004). Porous silicon for gas sensor applications. In NanoSemiMat-3.. Brasília: MCT.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon for gas sensor applications. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon for gas sensor applications. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Parte de monografia/livro
Electrochemical process for silicon tips fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for silicon tips fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Electrochemical process for silicon tips fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 ago. 28 ]
Artigo de periodico
Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development (2003)
Nascimento Filho, Antonio Pereira do; Silva, Maria Lucia Pereira da; Galeazzo, Elisabete ; Demarquette, Nicole Raymonde
Source: Sensors and Actuators B : Chemical. Unidade: EP
Subjects: POLIMERIZAÇÃO, PLASMA
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ABNT
NASCIMENTO FILHO, Antonio Pereira do et al. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development. Sensors and Actuators B : Chemical, v. 91, n. 1-3, p. 370-377, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4. Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Nascimento Filho, A. P. do, Silva, M. L. P. da, Galeazzo, E., & Demarquette, N. R. (2003). Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development. Sensors and Actuators B : Chemical, 91( 1-3), 370-377. doi:10.1016/s0925-4005(03)00111-4
NLM
Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Galeazzo E, Demarquette NR. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development [Internet]. Sensors and Actuators B : Chemical. 2003 ; 91( 1-3): 370-377.[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4
Vancouver
Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Galeazzo E, Demarquette NR. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development [Internet]. Sensors and Actuators B : Chemical. 2003 ; 91( 1-3): 370-377.[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4
Parte de monografia/livro
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 ago. 28 ]
Relatorio tecnico
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 28 ago. 2024. , 2003
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. São Paulo: EPUSP.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Artigo de periodico
Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: IEEE Sensors Journal,. Unidade: EP
Subjects: NANOTECNOLOGIA, MICROELETRÔNICA
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal, v. 3, n. 6, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163. Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal,, 3( 6). doi:10.1109/icsens.2002.1037163
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 ago. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Parte de monografia/livro
Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2002)
Dantas, M. O. S.; Galeazzo, Elisabete ; Pees, H. E. M.; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Proceedings. Conference titles: Conference on Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, M. O. S. et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. 2002, Anais.. Piscataway: IEEE, 2002. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. S., Galeazzo, E., Pees, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. In Proceedings. Piscataway: IEEE.
NLM
Dantas MOS, Galeazzo E, Pees HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. Proceedings. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MOS, Galeazzo E, Pees HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. Proceedings. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento-resumo
Responses of porous silicon to organic vapors (2002)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Santos, G; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Peixoto, N.
Source: ISOEN'02. Conference titles: International Symposium on Olfaction and Electronic Nose. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete et al. Responses of porous silicon to organic vapors. 2002, Anais.. Rome: Centro Congresi Frentani, 2002. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Santos, G., Ramírez Fernandez, F. J., & Peixoto, N. (2002). Responses of porous silicon to organic vapors. In ISOEN'02. Rome: Centro Congresi Frentani.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Responses of porous silicon to organic vapors. ISOEN'02. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Responses of porous silicon to organic vapors. ISOEN'02. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Electrochemical process for MEMS fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: IBERSENSOR 2002. Conference titles: Congreso Iberoamericano de Sensores y Biosensores. Unidade: EP
Assunto: SENSORES ELETROMECÂNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for MEMS fabrication. 2002, Anais.. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú, 2002. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Electrochemical process for MEMS fabrication. In IBERSENSOR 2002. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento-resumo
Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors (2002)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Santos, G.; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Peixoto, N.
Source: An interdisciplinary forum on all aspects of chemical sensors: abstracts book. Conference titles: International Meeting on Chemical Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete et al. Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors. 2002, Anais.. Boston: Elsevier, 2002. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Santos, G., Ramírez Fernandez, F. J., & Peixoto, N. (2002). Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors. In An interdisciplinary forum on all aspects of chemical sensors: abstracts book. Boston: Elsevier.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors. An interdisciplinary forum on all aspects of chemical sensors: abstracts book. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors. An interdisciplinary forum on all aspects of chemical sensors: abstracts book. 2002 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Analysis of porous silicon devices for gas sensors (2001)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete e PERES, Henrique Estanislau Maldonado e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Analysis of porous silicon devices for gas sensors. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2001). Analysis of porous silicon devices for gas sensors. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Analysis of porous silicon devices for gas sensors. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Analysis of porous silicon devices for gas sensors. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento
Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation (2001)
Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Galeazzo, Elisabete ; Dantas, Michel Oliveira da Silva; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PERES, Henrique Estanislau Maldonado et al. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Peres, H. E. M., Galeazzo, E., Dantas, M. O. da S., & Ramírez Fernandez, F. J. (2001). Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Vancouver
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 ago. 28 ]
Trabalho de evento-resumo
Caracterização elétrica de camadas de silício poroso (2000)
Braga, Eduardo Fonseca; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Galeazzo, Elisabete
Source: SICUSP : Resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRAGA, Eduardo Fonseca e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier e GALEAZZO, Elisabete. Caracterização elétrica de camadas de silício poroso. 2000, Anais.. São Paulo: USP, 2000. . Acesso em: 28 ago. 2024.
APA
Braga, E. F., Ramírez Fernandez, F. J., & Galeazzo, E. (2000). Caracterização elétrica de camadas de silício poroso. In SICUSP : Resumos. São Paulo: USP.
NLM
Braga EF, Ramírez Fernandez FJ, Galeazzo E. Caracterização elétrica de camadas de silício poroso. SICUSP : Resumos. 2000 ;[citado 2024 ago. 28 ]
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Braga EF, Ramírez Fernandez FJ, Galeazzo E. Caracterização elétrica de camadas de silício poroso. SICUSP : Resumos. 2000 ;[citado 2024 ago. 28 ]

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