Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: GALEAZZO, ELISABETE - EP ; PERES, HENRIQUE ESTANISLAU MALDONADO - EP ; FERNANDEZ, FRANCISCO JAVIER RAMIREZ - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1109/icsens.2002.1037163
- Subjects: NANOTECNOLOGIA; MICROELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: IEEE Sensors Journal,
- ISSN: 1530-437X
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 3, n.6, Dec. 2003
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal, v. 3, n. 6, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163. Acesso em: 16 fev. 2026. -
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal,, 3( 6). doi:10.1109/icsens.2002.1037163 -
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2026 fev. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163 -
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2026 fev. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163 - Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices
- Electrochemical process for silicon tips fabrication
- Responses of porous silicon to organic vapors
- Gas sensitive porous silicon devices: responses to organic vapors
- Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique
- Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication
- Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication
- Porous silicon for gas sensor applications
- Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development
- Electrochemical process for MEMS fabrication
Informações sobre o DOI: 10.1109/icsens.2002.1037163 (Fonte: oaDOI API)
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
