Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology (2008)
- Authors:
- Autor USP: MARTINO, JOÃO ANTONIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: The Electrochemical Society
- Publisher place: Pennington
- Date published: 2008
- Source:
- Título: SBMICRO 2008: Anais
- ISSN: 1938-5862
- Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO
-
ABNT
AGOPIAN, Paula Ghedini Der e ARRABAÇA, Julia Maria e MARTINO, João Antonio. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. 2008, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2008. . Acesso em: 15 fev. 2026. -
APA
Agopian, P. G. D., Arrabaça, J. M., & Martino, J. A. (2008). Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. In SBMICRO 2008: Anais. Pennington: The Electrochemical Society. -
NLM
Agopian PGD, Arrabaça JM, Martino JA. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2026 fev. 15 ] -
Vancouver
Agopian PGD, Arrabaça JM, Martino JA. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2026 fev. 15 ] - Impact of TiN metal gate thickness and the HsSiO nitridation on MuGFETs electrical performance
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