Projeto de processos de fabricação avançados aplicáveis nas tecnologias CMOS micrométricas (1992)
- Authors:
- Autor USP: MARTINO, JOAO ANTONIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher place: Belo Horizonte
- Date published: 1992
- Source:
- Título: Caderno de Engenharia
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.1, n.1, p. 51-57, jun. 1992
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ABNT
MAFRA JUNIOR, Johnny Jose e MARTINO, João Antonio. Projeto de processos de fabricação avançados aplicáveis nas tecnologias CMOS micrométricas. Caderno de Engenharia, v. 1, n. ju 1992, p. 51-57, 1992Tradução . . Acesso em: 16 mar. 2026. -
APA
Mafra Junior, J. J., & Martino, J. A. (1992). Projeto de processos de fabricação avançados aplicáveis nas tecnologias CMOS micrométricas. Caderno de Engenharia, 1( ju 1992), 51-57. -
NLM
Mafra Junior JJ, Martino JA. Projeto de processos de fabricação avançados aplicáveis nas tecnologias CMOS micrométricas. Caderno de Engenharia. 1992 ;1( ju 1992): 51-57.[citado 2026 mar. 16 ] -
Vancouver
Mafra Junior JJ, Martino JA. Projeto de processos de fabricação avançados aplicáveis nas tecnologias CMOS micrométricas. Caderno de Engenharia. 1992 ;1( ju 1992): 51-57.[citado 2026 mar. 16 ] - Impact of TiN metal gate thickness and the HsSiO nitridation on MuGFETs electrical performance
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