SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor (2005)
- Authors:
- Autor USP: MARTINO, JOÃO ANTONIO - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/j.sse.2004.06.010
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Solid-State Electronics
- ISSN: 0038-1101
- Status:
- Nenhuma versão em acesso aberto identificada
-
ABNT
SONNENBERG, Victor e MARTINO, João Antonio. SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor. Solid-State Electronics, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.sse.2004.06.010. Acesso em: 24 mar. 2026. -
APA
Sonnenberg, V., & Martino, J. A. (2005). SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor. Solid-State Electronics. doi:10.1016/j.sse.2004.06.010 -
NLM
Sonnenberg V, Martino JA. SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor [Internet]. Solid-State Electronics. 2005 ;[citado 2026 mar. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2004.06.010 -
Vancouver
Sonnenberg V, Martino JA. SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor [Internet]. Solid-State Electronics. 2005 ;[citado 2026 mar. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2004.06.010 - Impact of TiN metal gate thickness and the HsSiO nitridation on MuGFETs electrical performance
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