On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs (2013)
- Authors:
- USP affiliated authors: MARTINO, JOÃO ANTONIO - EP ; NICOLETTI, TALITHA - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1109/ted.2012.2227749
- Subjects: SILÍCIO; FILMES FINOS; AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO; TRANSISTORES
- Language: Inglês
- Source:
- Título: IEEE Transactions on Electron Devices
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 60, n. 1, p. 444-450, Jan 2013
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
SANTOS, Sara Dereste dos et al. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 60, n. 1, p. 444-450, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749. Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Santos, S. D. dos, Nicoletti, T., Martino, J. A., Aoulaiche, M., Veloso, A., Jurczak, M., et al. (2013). On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, 60( 1), 444-450. doi:10.1109/ted.2012.2227749 -
NLM
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2026 fev. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749 -
Vancouver
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2026 fev. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749 - Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS
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Informações sobre o DOI: 10.1109/ted.2012.2227749 (Fonte: oaDOI API)
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