Um processo de limpeza para lâminas de silício (1994)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIÃO GOMES DOS - EP ; HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: IFUSP/EPUSP/IPT
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1994
- Source:
- Título: Cbecimat: Anais
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais
-
ABNT
LEITE, N G e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Um processo de limpeza para lâminas de silício. 1994, Anais.. São Paulo: IFUSP/EPUSP/IPT, 1994. . Acesso em: 17 mar. 2026. -
APA
Leite, N. G., Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1994). Um processo de limpeza para lâminas de silício. In Cbecimat: Anais. São Paulo: IFUSP/EPUSP/IPT. -
NLM
Leite NG, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Um processo de limpeza para lâminas de silício. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2026 mar. 17 ] -
Vancouver
Leite NG, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Um processo de limpeza para lâminas de silício. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2026 mar. 17 ] - Estudo da quantificação da rugosidade da interface Si-SiO2. (em CD-Rom)
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