Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics (1995)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1088/0268-1242/10/7/015
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Semiconductor Science and Technology
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.10, n.7 , p.990-6, jul. 1995
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos et al. Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics. Semiconductor Science and Technology, v. 10, n. 7 , p. 990-6, 1995Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/0268-1242/10/7/015. Acesso em: 10 jan. 2026. -
APA
Santos Filho, S. G. dos, Hasenack, C. M., Lopes, M. C. V., & Baranauskas, V. (1995). Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics. Semiconductor Science and Technology, 10( 7 ), 990-6. doi:10.1088/0268-1242/10/7/015 -
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Lopes MCV, Baranauskas V. Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics [Internet]. Semiconductor Science and Technology. 1995 ;10( 7 ): 990-6.[citado 2026 jan. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0268-1242/10/7/015 -
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Lopes MCV, Baranauskas V. Rapid thermal oxidation of silicon with different thermal annealing cycles in nitrogen: influence on surface microroughness and electrical characteristics [Internet]. Semiconductor Science and Technology. 1995 ;10( 7 ): 990-6.[citado 2026 jan. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0268-1242/10/7/015 - Plating mechanisms of cooper onto silicon surfaces diluted hydrofluoric solutions
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Informações sobre o DOI: 10.1088/0268-1242/10/7/015 (Fonte: oaDOI API)
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