Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene (1993)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
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ABNT
SOUZA FILHO, J C e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 18 nov. 2024. -
APA
Souza Filho, J. C., Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1993). Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene. In Anais. Campinas: Sbmicro. -
NLM
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene. Anais. 1993 ;[citado 2024 nov. 18 ] -
Vancouver
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial de laminas de silicio empregando a tecnica de espalhamento elastico de luz laser hene. Anais. 1993 ;[citado 2024 nov. 18 ] - Achievement of high quality thin gates oxides grown by rapid thermal oxidation of silicon
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