Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica (1995)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Simposio de Iniciacao Cientifica da Universidade de São Paulo
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ABNT
SOUZA FILHO, J C e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. 1995, Anais.. São Paulo: Usp, 1995. . Acesso em: 07 out. 2024. -
APA
Souza Filho, J. C., Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1995). Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. In Resumos. São Paulo: Usp. -
NLM
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 out. 07 ] -
Vancouver
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 out. 07 ] - Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida
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