Influencia do substrato no transistor soi mosfet em temperatura ambiente (300k) e em baixa temperatura (77k) (1996)
- Authors:
- Autor USP: PAVANELLO, MARCELO ANTONIO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEE
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Language: Português
- Abstract: Apresentamos neste trabalho um estudo da influencia do substrato sobre as caracteristicas eletricas do transistor soi mosfet em temperatura ambiente e em baixa temperatura. Para este estudo foram utilizados transistores operando em modo enriquecimento e em modo acumulacao. Desenvolvemos um modelo analitico simples para a queda de potencial no substrato de soi mosfet's de camada fina e o integramos aos modelos classicamente utilizados. O modelo desenvolvido foi validado atraves de simulacoes numericas bidimensionais realizadas com o simulador medici. As previsoes teoricas e por simulacao foram comprovadas experimentalmente nao so em temperatura ambiente como em temperatura de nitrogenio liquido. Concluimos que os efeitos do substrato sobre as caracteristicas eletricas do transistor soi nao mais podem ser desprezados, principalmente quando oxidos enterrados finos sao utilizados, sobretudo em baixa temperatura. O modelo analitico desenvolvido mostrou-se capaz de descrever os efeitos provocados pelo substrato no transistor soi tanto em temperatura ambiente quanto em baixa temperatura.
- Imprenta:
- Data da defesa: 01.02.1996
-
ABNT
PAVANELLO, Marcelo Antonio. Influencia do substrato no transistor soi mosfet em temperatura ambiente (300k) e em baixa temperatura (77k). 1996. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1996. . Acesso em: 05 out. 2024. -
APA
Pavanello, M. A. (1996). Influencia do substrato no transistor soi mosfet em temperatura ambiente (300k) e em baixa temperatura (77k) (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Pavanello MA. Influencia do substrato no transistor soi mosfet em temperatura ambiente (300k) e em baixa temperatura (77k). 1996 ;[citado 2024 out. 05 ] -
Vancouver
Pavanello MA. Influencia do substrato no transistor soi mosfet em temperatura ambiente (300k) e em baixa temperatura (77k). 1996 ;[citado 2024 out. 05 ] - Projeto, fabricação e caracterização elétrica de uma nova estrutura para o SOI MOSFET
- Simulation of a Miller OpAmp with FinFETs at High temperatures
- Liquid helium temperature operation of graded-channel SOI nMOSFETs
- Potential of improved gain in operational transconductance amplifier using 0,5 Mm graded-channel SOI nMOSFET for applications in the gigahertz range
- Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures
- Comparison between conventional and graded-channel SOI nMOSFETs in low temperature operation
- Analog performance of graded-channel SOI NMOSFETS at low temperatures
- Impact of the graded-channel architecture on double gate transistors for high-performance analog applications
- Comparison between 0.13Mm partially-depleted silicon-on-insulator technology with floating body operation at 300 K and 90 K
- Implementation of tunable resistors using graded-channel SOI MOSFETs operating in cryogenic environments
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas