Low temperature pecvd silicon oxide (1995)
- Autores:
- Autor USP: ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Editora: Instituto de Informatica da Ufrgs
- Local: Porto Alegre
- Data de publicação: 1995
- Fonte:
- Título do periódico: Proceedings
- Nome do evento: Congress of the Brazilian Microelectronics Society
-
ABNT
PEREYRA, Inés e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Low temperature pecvd silicon oxide. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 25 set. 2024. -
APA
Pereyra, I., & Alayo Chávez, M. I. (1995). Low temperature pecvd silicon oxide. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs. -
NLM
Pereyra I, Alayo Chávez MI. Low temperature pecvd silicon oxide. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 set. 25 ] -
Vancouver
Pereyra I, Alayo Chávez MI. Low temperature pecvd silicon oxide. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 set. 25 ] - Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation
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