ReP USP - Resultado da busca

Trabalho de evento
Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes (1998)
Simões, Eliphas Wagner; Mansano, Ronaldo Domingues ; Furlan, Rogério ; Verdonck, Patrick Bernard
Fonte: XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assuntos: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. 1998, Anais.. Curitiba: s. ed, 1998. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Simões, E. W., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1998). Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. In XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. Curitiba: s. ed.
NLM
Simões EW, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. 1998 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Simões EW, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. 1998 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
A 1.4Gbit/s CMOS for 50Ω ECL systems (1997)
Soares Junior, João Navarro ; Silveira, Reinaldo; Romão, Fábio Luís; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Proceedings. Nome do evento: Great Lakes Symposium on VLSI. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SOARES JUNIOR, João Navarro et al. A 1.4Gbit/s CMOS for 50Ω ECL systems. 1997, Anais.. Los Alamitos: IEEE Computer Society Press, 1997. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Soares Junior, J. N., Silveira, R., Romão, F. L., & Van Noije, W. A. M. (1997). A 1.4Gbit/s CMOS for 50Ω ECL systems. In Proceedings. Los Alamitos: IEEE Computer Society Press.
NLM
Soares Junior JN, Silveira R, Romão FL, Van Noije WAM. A 1.4Gbit/s CMOS for 50Ω ECL systems. Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Soares Junior JN, Silveira R, Romão FL, Van Noije WAM. A 1.4Gbit/s CMOS for 50Ω ECL systems. Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Artigo de periodico
Determinacao de parametros de processo para fotomascara balzers utilizando gerador de padroes (1996)
Seki, Jorge; Saito, Megumi
Fonte: Boletim Tecnico da Escola Politecnica da USP. Departamento de Engenharia Eletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SEKI, Jorge e SAITO, Megumi. Determinacao de parametros de processo para fotomascara balzers utilizando gerador de padroes. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da USP. Departamento de Engenharia Eletronica, n. 09, 1996Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/89857abb-fdae-4fea-a07f-3e56d85e452c/BT-PEE-09_96_251022_091758.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Seki, J., & Saito, M. (1996). Determinacao de parametros de processo para fotomascara balzers utilizando gerador de padroes. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da USP. Departamento de Engenharia Eletronica, (09). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/89857abb-fdae-4fea-a07f-3e56d85e452c/BT-PEE-09_96_251022_091758.pdf
NLM
Seki J, Saito M. Determinacao de parametros de processo para fotomascara balzers utilizando gerador de padroes [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da USP. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(09):[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/89857abb-fdae-4fea-a07f-3e56d85e452c/BT-PEE-09_96_251022_091758.pdf
Vancouver
Seki J, Saito M. Determinacao de parametros de processo para fotomascara balzers utilizando gerador de padroes [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da USP. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(09):[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/89857abb-fdae-4fea-a07f-3e56d85e452c/BT-PEE-09_96_251022_091758.pdf
Trabalho de evento
Circuito buffer conversor cmos / ecl (1996)
Soares Junior, João Navarro ; Silveira, Reinaldo; Romão, Fabio Luis; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Anais SBCCI. Nome do evento: Simposio Brasileiro de Concepcao de Circuitos Integrados. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SOARES JUNIOR, João Navarro et al. Circuito buffer conversor cmos / ecl. 1996, Anais.. Recife: Sbc/Sbmicro/Ufpe, 1996. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Soares Junior, J. N., Silveira, R., Romão, F. L., & Van Noije, W. A. M. (1996). Circuito buffer conversor cmos / ecl. In Anais SBCCI. Recife: Sbc/Sbmicro/Ufpe.
NLM
Soares Junior JN, Silveira R, Romão FL, Van Noije WAM. Circuito buffer conversor cmos / ecl. Anais SBCCI. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Soares Junior JN, Silveira R, Romão FL, Van Noije WAM. Circuito buffer conversor cmos / ecl. Anais SBCCI. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Artigo de periodico
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas (1996)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Fonte: Applied Surface Science. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, v. 100/101, p. 583-586, 1996Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, 100/101, 583-586. doi:10.1016/0169-4332(96)00343-1
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ; 100/101 583-586.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ; 100/101 583-586.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
Trabalho de evento
Projeto do circuito mux 8.1 no padrao sonet / sdh a taxas de 1,25gb / s na tecnologia cmos 0,7m (1996)
Romão, Fábio Luís; Soares Junior, João Navarro ; Silveira, Reinaldo; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Anais SBCCI. Nome do evento: Simposio Brasileiro de Concepcao de Circuitos Integrados. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROMÃO, Fábio Luís et al. Projeto do circuito mux 8.1 no padrao sonet / sdh a taxas de 1,25gb / s na tecnologia cmos 0,7m. 1996, Anais.. Recife: Sbc/Sbmicro/Ufpe, 1996. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Romão, F. L., Soares Junior, J. N., Silveira, R., & Van Noije, W. A. M. (1996). Projeto do circuito mux 8.1 no padrao sonet / sdh a taxas de 1,25gb / s na tecnologia cmos 0,7m. In Anais SBCCI. Recife: Sbc/Sbmicro/Ufpe.
NLM
Romão FL, Soares Junior JN, Silveira R, Van Noije WAM. Projeto do circuito mux 8.1 no padrao sonet / sdh a taxas de 1,25gb / s na tecnologia cmos 0,7m. Anais SBCCI. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Romão FL, Soares Junior JN, Silveira R, Van Noije WAM. Projeto do circuito mux 8.1 no padrao sonet / sdh a taxas de 1,25gb / s na tecnologia cmos 0,7m. Anais SBCCI. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Artigo de periodico
A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps (1995)
Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Hasenack, Claus Martin; Salay, Luiz Carlos; Mertens, Paul
Fonte: Journal of the Electrochemical Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos et al. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps. Journal of the Electrochemical Society, v. 142, n. 3 , p. 902-7, 1995Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2048555. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Santos Filho, S. G. dos, Hasenack, C. M., Salay, L. C., & Mertens, P. (1995). A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps. Journal of the Electrochemical Society, 142( 3 ), 902-7. doi:10.1149/1.2048555
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Salay LC, Mertens P. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1995 ;142( 3 ): 902-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2048555
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Salay LC, Mertens P. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1995 ;142( 3 ): 902-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2048555
Trabalho de evento
Projeto do circuito demux 8: 1 com byte align no padrao sonet / sda a taxas de 1,25gb / s (1995)
Romão, Fábio Luís; Soares Junior, João Navarro ; Silveira, Reinaldo; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Memorias. Nome do evento: Workshop Iberchip. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROMÃO, Fábio Luís et al. Projeto do circuito demux 8: 1 com byte align no padrao sonet / sda a taxas de 1,25gb / s. 1995, Anais.. Santa Fe de Bogota: Universidad de los Andes, 1995. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Romão, F. L., Soares Junior, J. N., Silveira, R., & Van Noije, W. A. M. (1995). Projeto do circuito demux 8: 1 com byte align no padrao sonet / sda a taxas de 1,25gb / s. In Memorias. Santa Fe de Bogota: Universidad de los Andes.
NLM
Romão FL, Soares Junior JN, Silveira R, Van Noije WAM. Projeto do circuito demux 8: 1 com byte align no padrao sonet / sda a taxas de 1,25gb / s. Memorias. 1995 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Romão FL, Soares Junior JN, Silveira R, Van Noije WAM. Projeto do circuito demux 8: 1 com byte align no padrao sonet / sda a taxas de 1,25gb / s. Memorias. 1995 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados (1988)
Arakaki, Julio ; Andrade, Marco Túlio Carvalho de ; Moscato, Lucas Antonio
Fonte: Coletanea de Resultados de Pesquisas. Nome do evento: Reuniao de Trabalho do Projeto Estra. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ARAKAKI, Julio e ANDRADE, Marco Túlio Carvalho de e MOSCATO, Lucas Antonio. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados. 1988, Anais.. São Paulo: Sid Informática, 1988. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ed09989d-3ef5-483f-9929-06a8c6db370d/Moscato-1988-ROTPC.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Arakaki, J., Andrade, M. T. C. de, & Moscato, L. A. (1988). ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados. In Coletanea de Resultados de Pesquisas. São Paulo: Sid Informática. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/ed09989d-3ef5-483f-9929-06a8c6db370d/Moscato-1988-ROTPC.pdf
NLM
Arakaki J, Andrade MTC de, Moscato LA. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados [Internet]. Coletanea de Resultados de Pesquisas. 1988 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ed09989d-3ef5-483f-9929-06a8c6db370d/Moscato-1988-ROTPC.pdf
Vancouver
Arakaki J, Andrade MTC de, Moscato LA. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados [Internet]. Coletanea de Resultados de Pesquisas. 1988 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ed09989d-3ef5-483f-9929-06a8c6db370d/Moscato-1988-ROTPC.pdf
Trabalho de evento
ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados (1988)
Arakaki, Julio ; Andrade, Marco Túlio Carvalho de ; Moscato, Lucas Antonio
Fonte: Anais Sbcci 1988. Nome do evento: Simposio Brasileiro de Concepcao de Circuitos Integrados. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ARAKAKI, Julio e ANDRADE, Marco Túlio Carvalho de e MOSCATO, Lucas Antonio. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados. 1988, Anais.. Porto Alegre: Cpgcg-Ufrgs, 1988. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e29e4bd7-bdea-4beb-b370-1be81ae6fd4d/Moscato-1988-ROTPC.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Arakaki, J., Andrade, M. T. C. de, & Moscato, L. A. (1988). ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados. In Anais Sbcci 1988. Porto Alegre: Cpgcg-Ufrgs. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/e29e4bd7-bdea-4beb-b370-1be81ae6fd4d/Moscato-1988-ROTPC.pdf
NLM
Arakaki J, Andrade MTC de, Moscato LA. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados [Internet]. Anais Sbcci 1988. 1988 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e29e4bd7-bdea-4beb-b370-1be81ae6fd4d/Moscato-1988-ROTPC.pdf
Vancouver
Arakaki J, Andrade MTC de, Moscato LA. ROTPC: sistema para roteamento em circuitos integrados [Internet]. Anais Sbcci 1988. 1988 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e29e4bd7-bdea-4beb-b370-1be81ae6fd4d/Moscato-1988-ROTPC.pdf

Unidades USP

ReP

Filtros

Autores

Autores USP

Título da fonte

Editora

Nome do evento