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Relatorio tecnico
Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films (2020)
Morelhão, Sergio Luiz ; Kycia, Stefan; Netzke, Samuel; Fornari, Celso I.; Rappl, Paulo H. O.; Abramof, Eduardo
Unidade: IF
Assuntos: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, SEMICONDUTORES, CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X
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ABNT
MORELHÃO, Sergio Luiz et al. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. . Melville: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Morelhão, S. L., Kycia, S., Netzke, S., Fornari, C. I., Rappl, P. H. O., & Abramof, E. (2020). Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. Melville: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
NLM
Morelhão SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
Vancouver
Morelhão SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/2007.15042.pdf
Relatorio tecnico
Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators (2020)
Fornari, Celso I; Abramof, Eduardo; Rappl, Paulo H O; Kycia, Stefan W; Morelhão, Sergio Luiz
Unidade: IF
Assuntos: FILMES FINOS, BISMUTO
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ABNT
FORNARI, Celso I et al. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Fornari, C. I., Abramof, E., Rappl, P. H. O., Kycia, S. W., & Morelhão, S. L. (2020). Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
NLM
Fornari CI, Abramof E, Rappl PHO, Kycia SW, Morelhão SL. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
Vancouver
Fornari CI, Abramof E, Rappl PHO, Kycia SW, Morelhão SL. Morphology Control in van der Waals Epitaxy of Bismuth Telluride Topological Insulators [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2008/2008.02180.pdf
Relatorio tecnico
Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique (2020)
Hönnicke, Marcelo G.; Morelhão, Sergio Luiz
Unidade: IF
Assuntos: CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, RADIAÇÃO SINCROTRON, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
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ABNT
HÖNNICKE, Marcelo G. e MORELHÃO, Sergio Luiz. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Hönnicke, M. G., & Morelhão, S. L. (2020). Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
NLM
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Vancouver
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Artigo de periodico
Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela Felix da Silva ; Estradiote, Maurício B.; Cantarino, Marli dos Reis ; Garcia, F. A. ; Morelhao, Sergio L. ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W.; Calligaris, Guilherme A.; Remédios, Cláudio M.R.
Fonte: MRS Communications. Unidade: IF
Assuntos: CRISTALOGRAFIA FÍSICA, TERMOANÁLISE, RAIOS X
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ABNT
VALERIO, Adriana et al. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. MRS Communications, v. 10, n. 2, p. 265-271, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. da S., Estradiote, M. B., Cantarino, M. dos R., Garcia, F. A., Morelhao, S. L., et al. (2020). Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. MRS Communications, 10( 2), 265-271. doi:10.1557/mrc.2020.37
NLM
Valerio A, Penacchio RF da S, Estradiote MB, Cantarino M dos R, Garcia FA, Morelhao SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. MRS Communications. 2020 ; 10( 2): 265-271.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37
Vancouver
Valerio A, Penacchio RF da S, Estradiote MB, Cantarino M dos R, Garcia FA, Morelhao SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. MRS Communications. 2020 ; 10( 2): 265-271.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1557/mrc.2020.37
Trabalho de evento-resumo
Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources (2020)
Estradiote, Maurício B; Penacchio, Rafaela F S; Valério, Adriana; Morelhão, Sergio Luiz
Nome do evento: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: RADIAÇÃO SINCROTRON
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ABNT
ESTRADIOTE, Maurício B et al. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Estradiote, M. B., Penacchio, R. F. S., Valério, A., & Morelhão, S. L. (2020). Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
NLM
Estradiote MB, Penacchio RFS, Valério A, Morelhão SL. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
Vancouver
Estradiote MB, Penacchio RFS, Valério A, Morelhão SL. Two-Dimensional Representation of Bragg-Cones: a Graphical Tool for Studying Single Crystalswith High Flux Synchrotron Sources [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0576-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F S; Estradiote, Maurício B; Cantarino, Marli R; Garcia, Fernando A; Morelhão, Sergio Luiz ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W; Calligaris, Guilherme A; Remédios, Claudio M R
Nome do evento: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
VALERIO, Adriana et al. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., Estradiote, M. B., Cantarino, M. R., Garcia, F. A., Morelhão, S. L., et al. (2020). Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino MR, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino MR, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Resonant X-ray dynamical diffraction for studying thermoelectric materials [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F S; Morelhão, Sergio Luiz
Nome do evento: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assunto: SILÍCIO
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ABNT
VALERIO, Adriana e PENACCHIO, Rafaela F S e MORELHÃO, Sergio Luiz. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., & Morelhão, S. L. (2020). Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Morelhão SL. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Morelhão SL. Proper interpretation of Scherrer Equation validated by PDDF simulation of silicon nanoclusters [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0549-1.pdf
Relatorio tecnico
Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction (2020)
Valerio, Adriana; Penacchio, Rafaela F.S.; Estradiote, Maurício B.; Cantarino, Marli ; Garcia, F. A. ; Morelhão, Sergio Luiz ; Rafter, Niamh; Kycia, Stefan W.; Calligaris, Guilherme A.; Remédios, Cláudio M.R.
Unidade: IF
Assuntos: CRISTALOGRAFIA FÍSICA, TERMOANÁLISE, RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALERIO, Adriana et al. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Valerio, A., Penacchio, R. F. S., Estradiote, M. B., Cantarino, M., Garcia, F. A., Morelhão, S. L., et al. (2020). Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
NLM
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino M, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
Vancouver
Valerio A, Penacchio RFS, Estradiote MB, Cantarino M, Garcia FA, Morelhão SL, Rafter N, Kycia SW, Calligaris GA, Remédios CMR. Phonon scattering mechanism in thermoelectric materials revised via resonant x-ray dynamical diffraction [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/ftp/arxiv/papers/2006/2006.12747.pdf
Relatorio tecnico
Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning (2020)
Morelhão, Sergio Luiz ; Avanci, L H; Freitas, R; Quivy, Alain André
Unidade: IF
Assuntos: MICROELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, NANOTECNOLOGIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORELHÃO, Sergio Luiz et al. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. . Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Freitas, R., & Quivy, A. A. (2020). Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
NLM
Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
Vancouver
Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
Artigo de periodico
New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies (2020)
Cordeiro,A J P; Silva, L F da; Paschoal Jr., W; Morelhão, Sergio Luiz ; Saraiva, G D; Freire, P T C; Moreira, S G C; Sousa, F F de
Fonte: Vibrational Spectroscopy. Unidade: IF
Assuntos: MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, TRANSFORMADA DE FOURIER, ESPECTROSCOPIA RAMAN
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ABNT
CORDEIRO, A J P et al. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies. Vibrational Spectroscopy, v. 111, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Cordeiro, A. J. P., Silva, L. F. da, Paschoal Jr., W., Morelhão, S. L., Saraiva, G. D., Freire, P. T. C., et al. (2020). New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies. Vibrational Spectroscopy, 111. doi:10.1016/j.vibspec.2020.103174
NLM
Cordeiro AJP, Silva LF da, Paschoal Jr. W, Morelhão SL, Saraiva GD, Freire PTC, Moreira SGC, Sousa FF de. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies [Internet]. Vibrational Spectroscopy. 2020 ; 111[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174
Vancouver
Cordeiro AJP, Silva LF da, Paschoal Jr. W, Morelhão SL, Saraiva GD, Freire PTC, Moreira SGC, Sousa FF de. New bladed habit of hexadecanoic-acid crystals observed by SEM combined with XRD, FT-IR and Raman studies [Internet]. Vibrational Spectroscopy. 2020 ; 111[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.vibspec.2020.103174
Artigo de periodico
Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique (2020)
Hönnicke, Marcelo G.; Morelhão, Sérgio L.
Fonte: Radiation Physics and Chemistry. Unidade: IF
Assuntos: CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, RADIAÇÃO SINCROTRON, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
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ABNT
HÖNNICKE, Marcelo G. e MORELHÃO, Sérgio L. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. Radiation Physics and Chemistry, v. 167, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Hönnicke, M. G., & Morelhão, S. L. (2020). Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique. Radiation Physics and Chemistry, 167. doi:10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
NLM
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. Radiation Physics and Chemistry. 2020 ; 167[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Vancouver
Hönnicke MG, Morelhão SL. Intrinsic spatial resolution limit of the analyzer-based X-ray phase contrast imaging technique [Internet]. Radiation Physics and Chemistry. 2020 ; 167[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.radphyschem.2019.04.023
Artigo de periodico
Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films (2020)
Fornari, Celso I; Morelhão, Sergio Luiz
Fonte: Journal of Physical Chemistry C. Unidade: IF
Assuntos: EURÓPIO, EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FORNARI, Celso I e MORELHÃO, Sergio Luiz. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films. Journal of Physical Chemistry C, v. 124, n. 29, p. 16048–16057, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Fornari, C. I., & Morelhão, S. L. (2020). Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films. Journal of Physical Chemistry C, 124( 29), 16048–16057. doi:10.1021/acs.jpcc.0c05077
NLM
Fornari CI, Morelhão SL. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films [Internet]. Journal of Physical Chemistry C. 2020 ; 124( 29): 16048–16057.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077
Vancouver
Fornari CI, Morelhão SL. Incorporation of Europium in Bi2Te3 Topological Insulator Epitaxial Films [Internet]. Journal of Physical Chemistry C. 2020 ; 124( 29): 16048–16057.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.0c05077
Apresentacao sonora/cenica/entrevista
O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] (2020)
Morelhao, Sergio L.
Fonte: IFUSP-Física para Todos. Unidade: IF
Assuntos: FÍSICA MODERNA, NEUROCIÊNCIAS, MECÂNICA QUÂNTICA, REDES NEURAIS, DIVULGAÇÃO CIENTÍFICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORELHAO, Sergio L. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra]. IFUSP-Física para Todos. São Paulo: IFUSP. Disponível em: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Morelhao, S. L. (2020). O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra]. IFUSP-Física para Todos. São Paulo: IFUSP. Recuperado de https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
NLM
Morelhao SL. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] [Internet]. IFUSP-Física para Todos. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
Vancouver
Morelhao SL. O Professor Sergio Morelhão fala sobre "Física Quântica e Neurociência" [Palestra] [Internet]. IFUSP-Física para Todos. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://www.youtube.com/watch?v=znQAe89kfNE&feature=youtu.be
Artigo de periodico
Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles (2020)
Cabral, Alex J Freitas; Valerio, Adriana; Morelhão, Sergio Luiz ; Checca, Noemi R; Soares, Marcio M; Remedios, Claudio M R
Fonte: Crystal Growth Design. Unidade: IF
Assunto: NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CABRAL, Alex J Freitas et al. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles. Crystal Growth Design, v. 20, p. 600−607, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Cabral, A. J. F., Valerio, A., Morelhão, S. L., Checca, N. R., Soares, M. M., & Remedios, C. M. R. (2020). Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles. Crystal Growth Design, 20, 600−607. doi:10.1021/acs.cgd.9b00896
NLM
Cabral AJF, Valerio A, Morelhão SL, Checca NR, Soares MM, Remedios CMR. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles [Internet]. Crystal Growth Design. 2020 ; 20 600−607.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896
Vancouver
Cabral AJF, Valerio A, Morelhão SL, Checca NR, Soares MM, Remedios CMR. Controlled Formation and Growth Kinetics of Phase-Pure, Crystalline BiFeO3 Nanoparticles [Internet]. Crystal Growth Design. 2020 ; 20 600−607.[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.9b00896
Trabalho de evento-resumo
Computational tools for structural modeling of quantum devices (2020)
Silva, Yorí Galisteu Camillo da; Morelhão, Sergio Luiz
Nome do evento: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidade: IF
Assuntos: ELETRÔNICA, ÓPTICA ELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Yorí Galisteu Camillo da e MORELHÃO, Sergio Luiz. Computational tools for structural modeling of quantum devices. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Silva, Y. G. C. da, & Morelhão, S. L. (2020). Computational tools for structural modeling of quantum devices. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf
NLM
Silva YGC da, Morelhão SL. Computational tools for structural modeling of quantum devices [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf
Vancouver
Silva YGC da, Morelhão SL. Computational tools for structural modeling of quantum devices [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0462-2.pdf
Relatorio tecnico
On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system (2020)
Avanci, L H; Remedios, C M R; Quivy, Alain André ; Morelhão, Sergio Luiz
Unidade: IF
Assunto: DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
AVANCI, L H et al. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf. Acesso em: 14 ago. 2024. , 2020
APA
Avanci, L. H., Remedios, C. M. R., Quivy, A. A., & Morelhão, S. L. (2020). On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
NLM
Avanci LH, Remedios CMR, Quivy AA, Morelhão SL. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
Vancouver
Avanci LH, Remedios CMR, Quivy AA, Morelhão SL. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system [Internet]. 2020 ;[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
Artigo de periodico
Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111) (2020)
Kagerer, Philipp ; Fornari, Celso Israel ; Buchberger, S.; Morelhao, Sergio L.; Vidal, R. C.; Tcakaev, Abdul-Vakhab ; Zabolotnyy, V.; Weschke, E.; Hinkov, Vladimir ; Kamp, Martin ; Büchner, B.; Isaeva, Anna ; Bentmann, H.; Reinert, F.
Fonte: Journal of Applied Physics. Unidade: IF
Assuntos: FÍSICA DO ESTADO SÓLIDO, CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X, FILMES FINOS, EPITAXIA POR FEIXE MOLECULAR, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA, MICROSCOPIA DE FORÇA ATÔMICA, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
KAGERER, Philipp et al. Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111). Journal of Applied Physics, v. 128, n. 13, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/5.0025933. Acesso em: 14 ago. 2024.
APA
Kagerer, P., Fornari, C. I., Buchberger, S., Morelhao, S. L., Vidal, R. C., Tcakaev, A. -V., et al. (2020). Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111). Journal of Applied Physics, 128( 13). doi:10.1063/5.0025933
NLM
Kagerer P, Fornari CI, Buchberger S, Morelhao SL, Vidal RC, Tcakaev A-V, Zabolotnyy V, Weschke E, Hinkov V, Kamp M, Büchner B, Isaeva A, Bentmann H, Reinert F. Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111) [Internet]. Journal of Applied Physics. 2020 ; 128( 13):[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1063/5.0025933
Vancouver
Kagerer P, Fornari CI, Buchberger S, Morelhao SL, Vidal RC, Tcakaev A-V, Zabolotnyy V, Weschke E, Hinkov V, Kamp M, Büchner B, Isaeva A, Bentmann H, Reinert F. Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111) [Internet]. Journal of Applied Physics. 2020 ; 128( 13):[citado 2024 ago. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1063/5.0025933

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