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Artigo de periodico
Structural characterization of polymeric nanofibers of polyvinylidene fluoride (PVDF) (2023)
Silva, José Augusto Souza Gomes da; Silva Júnior, Walace Rodrigues da; Silva, Ana Neilde Rodrigues da ; Künzel, Roseli ; Bortoleto, José Roberto Ribeiro ; Melo, Emanuel Benedito de; Ulsen, Carina ; Trindade, Neilo Marcos
Source: Polímeros: Ciência e Tecnologia. Unidades: EP, IF
Subjects: MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, PIEZOELETRICIDADE
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ABNT
SILVA, José Augusto Souza Gomes da et al. Structural characterization of polymeric nanofibers of polyvinylidene fluoride (PVDF). Polímeros: Ciência e Tecnologia, v. 33, n. 1, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/0104-1428.20220117. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, J. A. S. G. da, Silva Júnior, W. R. da, Silva, A. N. R. da, Künzel, R., Bortoleto, J. R. R., Melo, E. B. de, et al. (2023). Structural characterization of polymeric nanofibers of polyvinylidene fluoride (PVDF). Polímeros: Ciência e Tecnologia, 33( 1). doi:10.1590/0104-1428.20220117
NLM
Silva JASG da, Silva Júnior WR da, Silva ANR da, Künzel R, Bortoleto JRR, Melo EB de, Ulsen C, Trindade NM. Structural characterization of polymeric nanofibers of polyvinylidene fluoride (PVDF) [Internet]. Polímeros: Ciência e Tecnologia. 2023 ; 33( 1):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1590/0104-1428.20220117
Vancouver
Silva JASG da, Silva Júnior WR da, Silva ANR da, Künzel R, Bortoleto JRR, Melo EB de, Ulsen C, Trindade NM. Structural characterization of polymeric nanofibers of polyvinylidene fluoride (PVDF) [Internet]. Polímeros: Ciência e Tecnologia. 2023 ; 33( 1):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1590/0104-1428.20220117
Artigo de periodico
Bulbo utilizado como método de encapsulamento para dispositivos OLEDs Bulb used as encapsulation method for OLED devices (2018)
Santos, Emerson Roberto ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da ; Ono, Eric Tsuneki Yoshiura; Yoshida, Satoru ; Oide, Mariane Yuka Tsubaki ; Burini Junior, Elvo Calixto ; Onmori, Roberto Koji ; Hui,Wang Shu
Source: Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. Unidades: EP, IEE
Subjects: DIODOS, DEGRADAÇÃO AMBIENTAL, BULBOS
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ABNT
SANTOS, Emerson Roberto et al. Bulbo utilizado como método de encapsulamento para dispositivos OLEDs Bulb used as encapsulation method for OLED devices. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo, v. 37, n. 2, p. 95-99, 2018Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.17563/rbav.v37i2.1082. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Santos, E. R., Silva, A. N. R. da, Ono, E. T. Y., Yoshida, S., Oide, M. Y. T., Burini Junior, E. C., et al. (2018). Bulbo utilizado como método de encapsulamento para dispositivos OLEDs Bulb used as encapsulation method for OLED devices. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo, 37( 2), 95-99. doi:10.17563/rbav.v37i2.1082
NLM
Santos ER, Silva ANR da, Ono ETY, Yoshida S, Oide MYT, Burini Junior EC, Onmori RK, Hui WS. Bulbo utilizado como método de encapsulamento para dispositivos OLEDs Bulb used as encapsulation method for OLED devices [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. 2018 ; 37( 2): 95-99.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v37i2.1082
Vancouver
Santos ER, Silva ANR da, Ono ETY, Yoshida S, Oide MYT, Burini Junior EC, Onmori RK, Hui WS. Bulbo utilizado como método de encapsulamento para dispositivos OLEDs Bulb used as encapsulation method for OLED devices [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. 2018 ; 37( 2): 95-99.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v37i2.1082
Trabalho de evento-resumo
Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch (2013)
Ozono, Edson Moriyoshi; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da; Ruchko, Leonid Fedorovich; Galvão, Ricardo Magnus Osório
Source: Program: Poster Session. Conference titles: Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. Unidades: EP, IF
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS (CONGRESSOS), FILMES FINOS (CONGRESSOS), FISICA DE PLASMAS (TECNOLOGIA)(CONGRESSOS)
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ABNT
OZONO, Edson Moriyoshi et al. Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch. 2013, Anais.. São Paulo: SBF, 2013. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/12/sys/resumos/R0086-1.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Ozono, E. M., Silva, A. N. R. da, Silva, M. L. P. da, Ruchko, L. F., & Galvão, R. M. O. (2013). Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch. In Program: Poster Session. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/12/sys/resumos/R0086-1.pdf
NLM
Ozono EM, Silva ANR da, Silva MLP da, Ruchko LF, Galvão RMO. Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch [Internet]. Program: Poster Session. 2013 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/12/sys/resumos/R0086-1.pdf
Vancouver
Ozono EM, Silva ANR da, Silva MLP da, Ruchko LF, Galvão RMO. Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch [Internet]. Program: Poster Session. 2013 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/12/sys/resumos/R0086-1.pdf
Trabalho de evento
Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink (2012)
Vega-Manzano, Omar ; Perez Medina, Gallardo J.; Furlan, Rogerio; Silva, Ana Neilde Rodrigues da ; Rosa, Luis G.
Source: Microelectronics technology and devices, SBMicro. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
VEGA-MANZANO, Omar et al. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink. 2012, Anais.. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2012. Disponível em: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Vega-Manzano, O., Perez Medina, G. J., Furlan, R., Silva, A. N. R. da, & Rosa, L. G. (2012). Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink. In Microelectronics technology and devices, SBMicro. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. doi:10.1149/04901.0241ecs
NLM
Vega-Manzano O, Perez Medina GJ, Furlan R, Silva ANR da, Rosa LG. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs
Vancouver
Vega-Manzano O, Perez Medina GJ, Furlan R, Silva ANR da, Rosa LG. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs
Dissertação (Mestrado)
Estudo da aplicação do processo Pin-in-Paste na montagem de placas de circuito impresso usando pasta de solda lead-free (SAC) (2011)
Lima, Ricardo Barbosa de; Silva, Ana Neilde Rodrigues da (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS IMPRESSOS, SOLDAGEM ELETRÔNICA
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ABNT
LIMA, Ricardo Barbosa de. Estudo da aplicação do processo Pin-in-Paste na montagem de placas de circuito impresso usando pasta de solda lead-free (SAC). 2011. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-03072012-182156/. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Lima, R. B. de. (2011). Estudo da aplicação do processo Pin-in-Paste na montagem de placas de circuito impresso usando pasta de solda lead-free (SAC) (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-03072012-182156/
NLM
Lima RB de. Estudo da aplicação do processo Pin-in-Paste na montagem de placas de circuito impresso usando pasta de solda lead-free (SAC) [Internet]. 2011 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-03072012-182156/
Vancouver
Lima RB de. Estudo da aplicação do processo Pin-in-Paste na montagem de placas de circuito impresso usando pasta de solda lead-free (SAC) [Internet]. 2011 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-03072012-182156/
Dissertação (Mestrado)
Estudo experimental da migração eletroquímica em soldagem eletrônica Sn/Ag/Cu "Lead Free" (2009)
Mendes, Luiz Tadeu Freire; Silva, Ana Neilde Rodrigues da (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SOLDAGEM ELETRÔNICA, ELETRÔNICA, ELETROQUÍMICA
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ABNT
MENDES, Luiz Tadeu Freire. Estudo experimental da migração eletroquímica em soldagem eletrônica Sn/Ag/Cu "Lead Free". 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09092009-100846/. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Mendes, L. T. F. (2009). Estudo experimental da migração eletroquímica em soldagem eletrônica Sn/Ag/Cu "Lead Free" (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09092009-100846/
NLM
Mendes LTF. Estudo experimental da migração eletroquímica em soldagem eletrônica Sn/Ag/Cu "Lead Free" [Internet]. 2009 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09092009-100846/
Vancouver
Mendes LTF. Estudo experimental da migração eletroquímica em soldagem eletrônica Sn/Ag/Cu "Lead Free" [Internet]. 2009 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09092009-100846/
Trabalho de evento
Digital image analysis to determine diameters distribution of nanofibers (2008)
Calíope, Priscila Braga; Del Moral Hernandez, Emilio ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da
Source: SBMICRO 2008: Anais. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
CALÍOPE, Priscila Braga e DEL MORAL HERNANDEZ, Emilio e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da. Digital image analysis to determine diameters distribution of nanofibers. 2008, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2008. Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2956064. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Calíope, P. B., Del Moral Hernandez, E., & Silva, A. N. R. da. (2008). Digital image analysis to determine diameters distribution of nanofibers. In SBMICRO 2008: Anais. Pennington: The Electrochemical Society. doi:10.1149/1.2956064
NLM
Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da. Digital image analysis to determine diameters distribution of nanofibers [Internet]. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2956064
Vancouver
Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da. Digital image analysis to determine diameters distribution of nanofibers [Internet]. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2956064
Dissertação (Mestrado)
Extensômetros de resistência elétrica fabricados por serigrafia para aplicação como sensores de pressão e célula de carga (2006)
Lima, Bruno Luis Soares de; Silva, Ana Neilde Rodrigues da (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: RESISTÊNCIA ELÉTRICA, AÇO INOXIDÁVEL, SINTERIZAÇÃO
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ABNT
LIMA, Bruno Luis Soares de. Extensômetros de resistência elétrica fabricados por serigrafia para aplicação como sensores de pressão e célula de carga. 2006. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2006. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Lima, B. L. S. de. (2006). Extensômetros de resistência elétrica fabricados por serigrafia para aplicação como sensores de pressão e célula de carga (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Lima BLS de. Extensômetros de resistência elétrica fabricados por serigrafia para aplicação como sensores de pressão e célula de carga. 2006 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Lima BLS de. Extensômetros de resistência elétrica fabricados por serigrafia para aplicação como sensores de pressão e célula de carga. 2006 ;[citado 2026 maio 01 ]
Artigo de periodico
Plasma etching of electrospun polymeric nanofibres (2006)
Verdonck, Patrick Bernard; Calíope, Priscila Braga; Del Moral Hernandez, Emilio ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da
Source: Thin Solid Films. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Plasma etching of electrospun polymeric nanofibres. Thin Solid Films, v. 515, n. 2, p. 831-834, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.12.196. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Verdonck, P. B., Calíope, P. B., Del Moral Hernandez, E., & Silva, A. N. R. da. (2006). Plasma etching of electrospun polymeric nanofibres. Thin Solid Films, 515( 2), 831-834. doi:10.1016/j.tsf.2005.12.196
NLM
Verdonck PB, Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da. Plasma etching of electrospun polymeric nanofibres [Internet]. Thin Solid Films. 2006 ;515( 2): 831-834.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.12.196
Vancouver
Verdonck PB, Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da. Plasma etching of electrospun polymeric nanofibres [Internet]. Thin Solid Films. 2006 ;515( 2): 831-834.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.12.196
Trabalho de evento
Morphological image processing as a tool to analyse plasma etching of polymeric nanofibers (2005)
Calíope, Priscila Braga; Del Moral Hernandez, Emilio ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
CALÍOPE, Priscila Braga et al. Morphological image processing as a tool to analyse plasma etching of polymeric nanofibers. 2005, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2005. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Calíope, P. B., Del Moral Hernandez, E., Silva, A. N. R. da, & Verdonck, P. B. (2005). Morphological image processing as a tool to analyse plasma etching of polymeric nanofibers. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da, Verdonck PB. Morphological image processing as a tool to analyse plasma etching of polymeric nanofibers. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. 2005 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Calíope PB, Del Moral Hernandez E, Silva ANR da, Verdonck PB. Morphological image processing as a tool to analyse plasma etching of polymeric nanofibers. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. 2005 ;[citado 2026 maio 01 ]
Parte de monografia/livro
Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles (2003)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Furlan, Rogério ; Ramos, I.; Silva, Maria Lucia Pereira da; Fachini, E.; Santiago-Avilés, Jorge Juan
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, BLENDAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da et al. Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da, Furlan, R., Ramos, I., Silva, M. L. P. da, Fachini, E., & Santiago-Avilés, J. J. (2003). Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Silva ANR da, Furlan R, Ramos I, Silva MLP da, Fachini E, Santiago-Avilés JJ. Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Silva ANR da, Furlan R, Ramos I, Silva MLP da, Fachini E, Santiago-Avilés JJ. Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2026 maio 01 ]
Trabalho de evento-resumo
Filme fino de TEOS para proteção de superfícies (2002)
Carvalho, Rodrigo Amorim Motta; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: SIICUSP;CICTE: resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Rodrigo Amorim Motta e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SILVA, Maria Lucia Pereira da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Carvalho, R. A. M., Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (2002). Filme fino de TEOS para proteção de superfícies. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
NLM
Carvalho RAM, Silva ANR da, Silva MLP da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
Vancouver
Carvalho RAM, Silva ANR da, Silva MLP da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
Trabalho de evento
The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS (2001)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e MORIMOTO, Nilton Itiro e BONNAUD, Olivier. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2001). The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2026 maio 01 ]
Artigo de periodico
Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature (2000)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Source: Microelectronics and Realiability. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e MORIMOTO, Nilton Itiro e BONNAUD, Olivier. Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature. Microelectronics and Realiability, v. 40, p. 621-624, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0026-2714(99)00296-6. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2000). Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature. Microelectronics and Realiability, 40, 621-624. doi:10.1016/s0026-2714(99)00296-6
NLM
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature [Internet]. Microelectronics and Realiability. 2000 ; 40 621-624.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2714(99)00296-6
Vancouver
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature [Internet]. Microelectronics and Realiability. 2000 ; 40 621-624.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0026-2714(99)00296-6
Trabalho de evento
Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process (2000)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Source: SBMicro 2000: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da et al. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da, Silva, M. L. P. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2000). Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. In SBMicro 2000: proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2026 maio 01 ]
Tese (Doutorado)
Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces (2000)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Morimoto, Nilton Itiro (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da. Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces. 2000. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-094437/. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da. (2000). Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-094437/
NLM
Silva ANR da. Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces [Internet]. 2000 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-094437/
Vancouver
Silva ANR da. Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces [Internet]. 2000 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102024-094437/
Trabalho de evento
Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer (1997)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier; Silva, Ana Neilde Rodrigues da
Source: Micromechanics Europe 97 : technical digest. Conference titles: Workshop on Micromachines, Micromechanics & Microsyems. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. 1997, Anais.. Southampton: University of Southampton, 1997. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., Morimoto, N. I., Bonnaud, O., & Silva, A. N. R. da. (1997). Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. In Micromechanics Europe 97 : technical digest. Southampton: University of Southampton.
NLM
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. Micromechanics Europe 97 : technical digest. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. Micromechanics Europe 97 : technical digest. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Trabalho de evento
PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom) (1997)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., Morimoto, N. I., Bonnaud, O., Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (1997). PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Trabalho de evento
Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom) (1997)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SILVA, Maria Lucia Pereira da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (1997). Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Silva ANR da, Silva MLP da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Silva ANR da, Silva MLP da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2026 maio 01 ]
Trabalho de evento
Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio (1994)
Laganá, Armando Antonio Maria ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
LAGANÁ, Armando Antonio Maria e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SWART, Jacobus Willibrordus. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ, 1994. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Laganá, A. A. M., Silva, A. N. R. da, & Swart, J. W. (1994). Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ.
NLM
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2026 maio 01 ]

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