Filme fino de TEOS para proteção de superfícies (2002)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP
- Unidade: EP
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: SIICUSP;CICTE: resumos
- Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP
-
ABNT
CARVALHO, Rodrigo Amorim Motta e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SILVA, Maria Lucia Pereira da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Carvalho, R. A. M., Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (2002). Filme fino de TEOS para proteção de superfícies. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
NLM
Carvalho RAM, Silva ANR da, Silva MLP da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2025 dez. 29 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
Vancouver
Carvalho RAM, Silva ANR da, Silva MLP da. Filme fino de TEOS para proteção de superfícies [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2025 dez. 29 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm - Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom)
- Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles
- Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process
- Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces
- Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo
- Production of silicon oxide like thin films by the use of atmospheric radio frequency plasma torch
- Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink
- PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom)
- Estudo da adsorção de silício poroso
- Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas