Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink (2012)
- Authors:
- Autor USP: SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1149/04901.0241ecs
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Pennington
- Date published: 2012
- Source:
- Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
VEGA-MANZANO, Omar et al. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink. 2012, Anais.. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2012. Disponível em: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs. Acesso em: 02 nov. 2024. -
APA
Vega-Manzano, O., Perez Medina, G. J., Furlan, R., Silva, A. N. R. da, & Rosa, L. G. (2012). Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink. In Microelectronics technology and devices, SBMicro. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. doi:10.1149/04901.0241ecs -
NLM
Vega-Manzano O, Perez Medina GJ, Furlan R, Silva ANR da, Rosa LG. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs -
Vancouver
Vega-Manzano O, Perez Medina GJ, Furlan R, Silva ANR da, Rosa LG. Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1149/04901.0241ecs - Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces
- Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo
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Informações sobre o DOI: 10.1149/04901.0241ecs (Fonte: oaDOI API)
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