Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo (1994)
- Authors:
- Autor USP: SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PMT
- Subjects: MATERIAIS; FILMES FINOS
- Language: Português
- Abstract: A formação de disiliceto de titânio 'TI''SI IND.2' pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e silício amorfo, visando a aplicação em portas e interconexões de dispositivos MOS. O substrato de silício policristalino afeta tanto a cinética de formação da fase 'TI''SI IND.2'- c 49, como a temperatura de transição de 'TI''SI IND.2'- c 49 para 'TI''SI IND.2'- c 54. A temperatura desta transição de fase também é influenciada pela presença do fósforo no substrato de silício policristalino. Devido a alta reatividade química entre o titânio e o oxigênio presente no ambiente, investigou-se o uso de uma capa de proteção de silício amorfo, depositada sobre o filme de titânio. Os filmes de siliceto obtidos desta maneira, resultaram mais espessos, e mostram uma temperatura de transição de C49 para C54 menor do que a verificada para silicetos formados sem a capa. Para a reação de filmes finos de titânio com silício amorfo, investigou-se a influência da razão entre as espessuras dos filmes depositados. Para estruturas com 70 ou 80nm de silício amorfo depositado sobre 40 nm de titânio, verificou-se que após tratamento com baixa temperatura ocorre a formação de 'TI''SI IND.2'- c 49 e 'TI IND.5''SI IND.3'. Para estruturas com 90 nm de silício amorfo sobre 40 nm de titânio, verificou-se também a presença de 'TI''SI IND.2'- C54 e o aparecimento de bolhas e precipitados.
- Imprenta:
- Data da defesa: 24.06.1994
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da. Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo. 1994. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-16082024-080316/pt-br.php. Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Silva, A. N. R. da. (1994). Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-16082024-080316/pt-br.php -
NLM
Silva ANR da. Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo [Internet]. 1994 ;[citado 2025 dez. 29 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-16082024-080316/pt-br.php -
Vancouver
Silva ANR da. Estudo da formação do siliceto de titânio obtido pela reação de filmes finos de titânio com silício policristalino e com silício amorfo [Internet]. 1994 ;[citado 2025 dez. 29 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-16082024-080316/pt-br.php - Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces
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