Estudo da formacao do siliceto de titanio obtido pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e com silicio amorfo (1994)
- Authors:
- Autor USP: SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PMT
- Subjects: MATERIAIS; FILMES FINOS
- Language: Português
- Abstract: A formacao de disiliceto de titanio 'TI''SI IND.2' pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e silicio amorfo, visando a aplicacao em portas e interconexoes de dispositivos mos. O substrato de silicio policristalino afeta tanto a cinetica de formacao da fase 'TI''SI IND.2'- c 49, como a temperatura de transicao de 'TI''SI IND.2'- c 49 para 'TI''SI IND.2'- c 54. A temperatura desta transicao de fase tambem e influenciada pela presenca do fosforo no substrato de silicio policristalino. Devido a alta reatividade quimica entre o titanio e o oxigenio presente no ambiente, investigou-se o uso de uma capa de protecao de silicio amorfo, depositada sobre o filme de titanio. Os filmes de siliceto obtidos desta maneira, resultaram mais espessos, e mostram uma temperatura de transicao de c 49 para c 54 menor do que a verificada para silicetos formados sem a capa. Para a reacao de filmes finos de titanio com silicio amorfo, investigou-se a influencia da razao entre as espessuras dos filmes depositados. Para estruturas com 70 ou 80nm de silicio amorfo depositado sobre 40 nm de titanio, verificou-se que apos tratamento com baixa temperatura ocorre a formacao de 'TI''SI IND.2'- c 49 e 'TI IND.5''SI IND.3'. Para estruturas com 90 nm de silicio amorfo sobre 40 nm de titanio, verificou-se tambem a presenca de 'TI''SI IND.2'- c 54 e o aparecimento de bolhas e precipitados.
- Imprenta:
- Data da defesa: 24.06.1994
-
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da. Estudo da formacao do siliceto de titanio obtido pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e com silicio amorfo. 1994. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Silva, A. N. R. da. (1994). Estudo da formacao do siliceto de titanio obtido pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e com silicio amorfo (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Silva ANR da. Estudo da formacao do siliceto de titanio obtido pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e com silicio amorfo. 1994 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Silva ANR da. Estudo da formacao do siliceto de titanio obtido pela reacao de filmes finos de titanio com silicio policristalino e com silicio amorfo. 1994 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces
- Dip Pen nanolithography using a polyacrylonitrile based ink
- Estudo da cinética de formação do 'TI''SI IND.2' fase c49 sobre silício monocristalino
- Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio
- Characterization of electrospinning process using blends of polyacrylonitrile and carbon particles
- Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature
- Formação do siliceto de titânio pela deposição de uma dupla camada de 'SI'-a / 'TI' visando a utilização em linhas de interconexão local
- Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom)
- The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS
- Filme fino de TEOS para proteção de superfícies
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
