Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process (2000)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, ANA NEILDE RODRIGUES DA - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP
- Publisher place: Manaus
- Date published: 2000
- Source:
- Título: SBMicro 2000: proceedings
- Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging
-
ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da et al. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Silva, A. N. R. da, Silva, M. L. P. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2000). Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. In SBMicro 2000: proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP. -
NLM
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2025 dez. 29 ] -
Vancouver
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2025 dez. 29 ] - Tetraethylorthosilicate SiO2 films deposited at a low temperature
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