Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: OLIVEIRA, ELISABETH DE - IQ ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Schools: IQ; EP
- Subjects: QUÍMICA ANALÍTICA; QUÍMICA ANALÍTICA INSTRUMENTAL; ESPECTROSCOPIA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Associacao Brasileira de Quimica
- Place of publication: São Paulo
- Date published: 1992
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference title: Congresso Brasileiro de Quimica
-
ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da; OLIVEIRA, Elisabeth de; MORIMOTO, Nilton Itiro. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. Anais.. São Paulo: Associacao Brasileira de Quimica, 1992. -
APA
Silva, M. L. P. da, Oliveira, E. de, & Morimoto, N. I. (1992). Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. In Resumos. São Paulo: Associacao Brasileira de Quimica. -
NLM
Silva MLP da, Oliveira E de, Morimoto NI. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. Resumos. 1992 ; -
Vancouver
Silva MLP da, Oliveira E de, Morimoto NI. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. Resumos. 1992 ; - Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd
- Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio
- Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd
- Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process
- Study of nickel silicide as mask for alkaline solutions to V-grooves fabrication
- Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X
- Method to obtain TEOS PECVD silicon oxide thick layers for optoelectronics devices applications. (em CD-Rom)
- Mach-zehnder interferometer simulation results for integrated optical pressure sensor
- PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom)
- Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
