Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X (1987)
- Authors:
- Autor USP: MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEL
- Subjects: FILMES FINOS; DIFRAÇÃO POR RAIOS X; TITÂNIO
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho apresentamos técnicas de caracterização de filmes finos por difração de Raio X quanto a : fases do filme formado; “stress” residual (macrostress), tamanho de cristalito e microtensão (microstress). Mostramos inicialmente, de forma resumida, um estudo teórico sobre silicetos, cristalografia e difração de Raio X. A seguir passamos à descrição das técnicas de caracterização utilizadas neste trabalho. As técnicas desenvolvidas foram aplicadas no estudo da formação de filmes de siliceto de titânio a partir do recozimento pela técnica de RTP (Recozimento Térmico Rápido) de filmes finos de Ti depositados sobre substrato de Si. A formação das diferentes fases foram estudadas em função da temperatura e do tempo em uma e duas etapas de recozimento. A fase TiSi2, menos resistiva, foi observada para temperaturas a partir de 700°C. Os resultados experimentais mostraram que o “stress” residual não é significativamente influenciado pelas condições de recozimento para a fase TiSi2. A microtensão diminui com o aumento do tempo de recozimento à 800°C sem influenciar significativamente no tamanho do cristalito. Na técnica de obtenção de microtensão e tamanho de cristalito, dois métodos de cálculo foram implementados e comparados. O método de Riella mostrou-se bastante eficiente, enquanto o método de Gangulee mostrou-se inadequado, por apresentar grandes oscilações no resultado.
- Imprenta:
- Data da defesa: 17.12.1987
-
ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro. Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X. 1987. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1987. . Acesso em: 30 dez. 2025. -
APA
Morimoto, N. I. (1987). Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Morimoto NI. Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X. 1987 ;[citado 2025 dez. 30 ] -
Vancouver
Morimoto NI. Caracterização de filmes finos de siliceto de titanio por técnicas de difração de Raio X. 1987 ;[citado 2025 dez. 30 ] - Study of nickel silicide as mask for alkaline solutions to V-grooves fabrication
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