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Tese (Doutorado)
Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (2017)
Armas Alvarado, Maria Elisia; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
ARMAS ALVARADO, Maria Elisia. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal. 2017. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2017. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/. Acesso em: 08 out. 2025.
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Armas Alvarado, M. E. (2017). Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
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Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
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Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
Tese (Doutorado)
Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (2015)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio. 2015. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Damiani, L. R. (2015). Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
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Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
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Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
Dissertação (Mestrado)
Projeto de uma cápsula hermética para sensor de pressão piezoresistivo aplicado a medições em meios agressivos (2015)
Silva, Alex Nunes da; Onmori, Roberto Koji (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SENSOR, ELETRÔNICA EMBARCADA, AUTOMAÇÃO INDUSTRIAL, METROLOGIA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, ENCAPSULAMENTO ELETRÔNICO
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SILVA, Alex Nunes da. Projeto de uma cápsula hermética para sensor de pressão piezoresistivo aplicado a medições em meios agressivos. 2015. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-26052025-082041/pt-br.php. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Silva, A. N. da. (2015). Projeto de uma cápsula hermética para sensor de pressão piezoresistivo aplicado a medições em meios agressivos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-26052025-082041/pt-br.php
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Silva AN da. Projeto de uma cápsula hermética para sensor de pressão piezoresistivo aplicado a medições em meios agressivos [Internet]. 2015 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-26052025-082041/pt-br.php
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Silva AN da. Projeto de uma cápsula hermética para sensor de pressão piezoresistivo aplicado a medições em meios agressivos [Internet]. 2015 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-26052025-082041/pt-br.php
Dissertação (Mestrado)
Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados (2014)
Camilo, Mauricio Eiji; Kassab, Luciana Reyes Pires (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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CAMILO, Mauricio Eiji. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados. 2014. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2014. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Camilo, M. E. (2014). Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
NLM
Camilo ME. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
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Camilo ME. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
Dissertação (Mestrado)
Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares (2011)
Colombo, Fábio Belotti; Páez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SOFTWARES (SIMULAÇÃO), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, AUTÔMATOS CELULARES, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
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COLOMBO, Fábio Belotti. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares. 2011. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Colombo, F. B. (2011). Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/
NLM
Colombo FB. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares [Internet]. 2011 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/
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Colombo FB. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares [Internet]. 2011 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/
Dissertação (Mestrado)
Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo (2011)
Espinosa, Daniel Humberto Garcia ; Onmori, Roberto Koji (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ESPINOSA, Daniel Humberto Garcia. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo. 2011. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Espinosa, D. H. G. (2011). Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/
NLM
Espinosa DHG. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo [Internet]. 2011 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/
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Espinosa DHG. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo [Internet]. 2011 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/
Dissertação (Mestrado)
Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS (2010)
Pelegrini, Marcus Vinícius ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, ATUADORES PIEZELÉTRICOS
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ABNT
PELEGRINI, Marcus Vinícius. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS. 2010. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Pelegrini, M. V. (2010). Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
NLM
Pelegrini MV. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
Vancouver
Pelegrini MV. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
Artigo de periodico
TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 960-963, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 960-963. doi:10.1002/pssc.200982878
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
Tese (Doutorado)
Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos (2010)
Roque Huanca, Danilo; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, MATERIAIS, ELETROQUÍMICA, CORROSÃO, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA), NANOTECNOLOGIA, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROQUE HUANCA, Danilo. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos. 2010. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Roque Huanca, D. (2010). Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
NLM
Roque Huanca D. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
Vancouver
Roque Huanca D. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
Artigo de periodico
Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
Gollub, Alexandre Henrique; Carvalho, Daniel Orquiza de ; Paiva, Thiago Costa de ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique et al. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Artigo de periodico
A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications (2010)
Oliveira, Alessandro Ricardo; Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, SEMICONDUTORES, METAIS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OLIVEIRA, Alessandro Ricardo e PEREYRA, Inés e PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 793-796, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Oliveira, A. R., Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2010). A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 793-796. doi:10.1002/pssc.200982839
NLM
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 793-796.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839
Vancouver
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 793-796.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839
Artigo de periodico
Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 719-719, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 719-719. doi:10.1002/pssc.200982795
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Dissertação (Mestrado)
Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (2009)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Damiani, L. R. (2009). Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
NLM
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
Vancouver
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
Dissertação (Mestrado)
Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos (2008)
Silva, Felipe José Ferreira Sabino da; Furlan, Humber (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Felipe José Ferreira Sabino da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Silva, F. J. F. S. da. (2008). Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
NLM
Silva FJFS da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
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Silva FJFS da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
Dissertação (Mestrado)
Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos (2008)
Morales Alvarado, Ary Adilson; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS, DISPOSITIVOS ÓPTICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORALES ALVARADO, Ary Adilson. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Morales Alvarado, A. A. (2008). Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
NLM
Morales Alvarado AA. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
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Morales Alvarado AA. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
Dissertação (Mestrado)
Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada (2008)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Carvalho, D. O. de. (2008). Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
NLM
Carvalho DO de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
Vancouver
Carvalho DO de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
Dissertação (Mestrado)
Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica (2008)
Schianti, Juliana de Novais; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE FABRICAÇÃO
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ABNT
SCHIANTI, Juliana de Novais. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Schianti, J. de N. (2008). Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
NLM
Schianti J de N. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
Vancouver
Schianti J de N. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
Tese (Doutorado)
Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (2008)
Rehder, Gustavo Pamplona ; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PLASMA (MICROELETRÔNICA), DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
REHDER, Gustavo Pamplona. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Rehder, G. P. (2008). Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
NLM
Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Vancouver
Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Dissertação (Mestrado)
Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder (2008)
Mina, Alexandre Martin; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MINA, Alexandre Martin. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Mina, A. M. (2008). Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
NLM
Mina AM. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
Vancouver
Mina AM. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
Dissertação (Mestrado)
Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura (2007)
Rocha, Otávio Filipe da; Viana, Carlos Eduardo (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PLASMA (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROCHA, Otávio Filipe da. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura. 2007. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Rocha, O. F. da. (2007). Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/
NLM
Rocha OF da. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura [Internet]. 2007 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/
Vancouver
Rocha OF da. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura [Internet]. 2007 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/

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