Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (2009)
- Authors:
- Autor USP: DAMIANI, LARISSA RODRIGUES - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Subjects: FILMES FINOS; PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Abstract: O óxido de índio dopado com estanho é um semicondutor degenerado de alta transparência no espectro visível e alta condutância elétrica. Por suas propriedades, ele é utilizado como eletrodo transparente em diversas aplicações. Algumas destas aplicações exigem que os filmes sejam depositados sobre substratos poliméricos, que degradam em temperaturas acima de 100°C. Por este motivo, métodos de deposição que utilizam baixas temperaturas são necessários. O objetivo deste trabalho é o desenvolvimento de técnicas de deposição de filmes de óxido de índio dopado com estanho, em baixas temperaturas (< 100°C), pelo método de magnetron sputtering de rádio frequência. Filmes foram obtidos sobre substratos de silício, vidro e policarbonato, e suas propriedades físicas, elétricas, ópticas, químicas e estruturais foram analisadas por perfilometria, elipsometria, curvas corrente-tensão, prova de quatro pontas, medidas de efeito Hall, difratometria de raios-X e espectrofotometria. Filmes depositados sobre silício e vidro tiveram resistividade elétrica mínima da ordem de 10-4 \03A9.cm, enquanto a resistividade do filme obtido sobre policarbonato foi da ordem de 10-3 \03A9.cm. A transmitância óptica média no espectro visível das amostras variou de 66 a 87%. Do ponto de vista estrutural, as amostras tenderam a apresentar fase amorfa e cristalina, com orientação preferencial ao longo da direção [100]. De modo geral, as amostras obtidas de 75 a 125 W tiveram as melhores propriedades para serem utilizadas em aplicações que exijam eletrodos transparentes, considerando aspectos elétricos e ópticos.
- Imprenta:
- Data da defesa: 16.12.2009
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ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/. Acesso em: 23 jan. 2026. -
APA
Damiani, L. R. (2009). Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/ -
NLM
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2026 jan. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/ -
Vancouver
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2026 jan. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
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