Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; GOLLUB, ALEXANDRE HENRIQUE - EP ; PAIVA, THIAGO COSTA DE - EP ; CARVALHO, DANIEL ORQUIZA DE - EP
- School: EP
- DOI: 10.1002/pssc.200982889
- Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Physica Status Solidi C
- ISSN: 1610-1642
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique; CARVALHO, Daniel Orquiza de; PAIVA, Thiago Costa de; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, Weinheim, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010. Disponível em: < https://doi.org/10.1002/pssc.200982889 > DOI: 10.1002/pssc.200982889. -
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889 -
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889 -
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889 - Bend Coupling Through Near-Zero GVD Slow Light Photonic Crystal Waveguides
- A review on pedestal waveguides for low loss optical guiding, optical amplifiers and nonlinear optics applications
- Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada
- Desenvolvimento de processos de fabricação de dispositivos óptico integrados em tecnologia de silício para aplicação em sensoriamento
- Deposição e caracterização de filmes de 'SI''O IND.2' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura
- A new fabrication process of pedestal waveguides based on metal dielectric composites of Yb3+/Er3+ codoped PbO-GeO2 thin films with gold nanoparticles
- Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer
- Influence of gold nanoparticles on the 805 nm gain in Tm3+/Yb3+ codoped PbO-GeO2 pedestal waveguides
- Estudo e otimização das propriedades estruturais, ópticas e elétricas de películas de SiOxNy depositadas por PECVD para aplicações em dispositivos MOS, microestruturas e guias de onda
- TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides
Informações sobre o DOI: 10.1002/pssc.200982889 (Fonte: oaDOI API)
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