Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP
- Unidades: EP
- DOI: 10.1002/pssc.200982889
- Subjects: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Physica Status Solid C
- ISSN: 1610-1642
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 7, n. 3-4, p. 964-967, 2010
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique; CARVALHO, Daniel Orquiza de; PAIVA, Thiago C; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solid C, Berlin, Wiley-VCH, v. 7, n. 3-4, p. 964-967, 2010. DOI: 10.1002/pssc.200982889. -
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solid C, 7( 3-4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889 -
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solid C. 2010 ; 7( 3-4): 964-967. -
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solid C. 2010 ; 7( 3-4): 964-967. - Deposição e caracterização de filmes de 'SI''O IND.2' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura
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Informações sobre o DOI: 10.1002/pssc.200982889 (Fonte: oaDOI API)
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