Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; GOLLUB, ALEXANDRE HENRIQUE - EP ; PAIVA, THIAGO COSTA DE - EP ; CARVALHO, DANIEL ORQUIZA DE - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1002/pssc.200982889
- Subjects: FILMES FINOS; PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Physica Status Solidi C
- ISSN: 1610-1642
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique et al. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889. Acesso em: 15 fev. 2026. -
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889 -
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889 -
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889 - Bend Coupling Through Near-Zero GVD Slow Light Photonic Crystal Waveguides
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Informações sobre o DOI: 10.1002/pssc.200982889 (Fonte: oaDOI API)
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