MISHEMT intrinsic voltage gain under multiple channel output characteristics (2023)
- Authors:
- USP affiliated authors: MARTINO, JOÃO ANTONIO - EP ; CANALES, BRUNO GODOY - EP ; PERINA, WELDER FERNANDES - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1088/1361-6641/acfa1f
- Subjects: TRANSISTORES; SEMICONDUTORES
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Semiconductor Science and Technology
- ISSN: 1361-6641
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 38, n. 11, p. 1-6, 2023. Article nº 115004
- Status:
- Artigo aberto em periódico híbrido (Hybrid Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão publicada (Published version)
- Acessar versão aberta:
-
ABNT
CANALES, Bruno Godoy et al. MISHEMT intrinsic voltage gain under multiple channel output characteristics. Semiconductor Science and Technology, v. 38, n. 11, p. 1-6, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/1361-6641/acfa1f. Acesso em: 07 maio 2026. -
APA
Canales, B. G., Perina, W. F., Martino, J. A., Simoen, E., Peralagu, U., Collaert, N., & Agopian, P. G. D. (2023). MISHEMT intrinsic voltage gain under multiple channel output characteristics. Semiconductor Science and Technology, 38( 11), 1-6. doi:10.1088/1361-6641/acfa1f -
NLM
Canales BG, Perina WF, Martino JA, Simoen E, Peralagu U, Collaert N, Agopian PGD. MISHEMT intrinsic voltage gain under multiple channel output characteristics [Internet]. Semiconductor Science and Technology. 2023 ; 38( 11): 1-6.[citado 2026 maio 07 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6641/acfa1f -
Vancouver
Canales BG, Perina WF, Martino JA, Simoen E, Peralagu U, Collaert N, Agopian PGD. MISHEMT intrinsic voltage gain under multiple channel output characteristics [Internet]. Semiconductor Science and Technology. 2023 ; 38( 11): 1-6.[citado 2026 maio 07 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6641/acfa1f - Influence of gate insulator and AlGaN barrier layer on MISHEMT conduction mechanisms
- Experimental study of MISHEMT from 450 K down to 200 K for analog applications
- Experimental analysis of MISHEMT multiple conductions from 200K to 450K
- Experimental study of MISHEMT from 450k down to 200 k for analog applications
- Study of the effect of multiple conductions on threshold voltage in a MIS-HEMT from 450 K down to 200 K
- Design of operational transconductance amplifier with gate-all-around nanosheet MOSFET using experimental data from room temperature to 200°C
- Estudo do comportamento de transistores de efeito de campo de alta mobilidade de elétrons (MISHEMT) operando em diferentes temperaturas
- Experimental analysis of trade-off between transistor efficiency and unit gain frequency of nanosheet NMOSFET down to -100°C
- Impact of TiN metal gate thickness and the HsSiO nitridation on MuGFETs electrical performance
- Caracterização elétrica de dispositivos SOI MOS em baixa temperatura
Informações sobre a disponibilidade de versões do artigo em acesso aberto coletadas automaticamente via oaDOI API (Unpaywall).
Por se tratar de integração com serviço externo, podem existir diferentes versões do trabalho (como preprints ou postprints), que podem diferir da versão publicada.
Download do texto completo
| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
| MISHEMT intrinsic voltage... |
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
