EXAFS analysis on SiOxNy films (2006)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; PEREYRA, INÊS - EP
- Unidades: IF; EP
- Assunto: MATERIAIS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais
- Publisher place: Florianópolis
- Date published: 2006
- Source:
- Título: Abstracts
- Conference titles: Brazilian MRS Meeting
-
ABNT
CRIADO, Denise e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. EXAFS analysis on SiOxNy films. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 22 jan. 2026. -
APA
Criado, D., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). EXAFS analysis on SiOxNy films. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais. -
NLM
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2026 jan. 22 ] -
Vancouver
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2026 jan. 22 ] - Exafs analysis on sioxny films
- Comparison of the structural properties of the PECVD SIOXNY dielectric layer with the interface electrical properties in SI/SIOXNY/AL capacitors
- Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide
- Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H
- Evidence of clusters size-dependent photoluminescence on silicon-rich silicon oxynitride films
- Intrinsic and doped microcrystalline silicon films for application in double barrier structures
- Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application
- SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H
- Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films
- Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
