Smooth p-type GaAs(001) films grown by molecular-beam epitaxy using silicon as the dopant (2005)
- Authors:
- USP affiliated authors: QUIVY, ALAIN ANDRE - IF ; LEITE, JOSE ROBERTO - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/j.tsf.2004.08.004
- Subjects: MATÉRIA CONDENSADA; MATERIAIS; EFEITO HALL; FOTOLUMINESCÊNCIA; PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 474, n. 1-2, p. 25-30, 2005
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
LAMAS, T. E. et al. Smooth p-type GaAs(001) films grown by molecular-beam epitaxy using silicon as the dopant. Thin Solid Films, v. 474, n. 1-2, p. 25-30, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.08.004. Acesso em: 31 out. 2024. -
APA
Lamas, T. E., Quivy, A. A., Martini, S., Silva, M. J. da, & Leite, J. R. (2005). Smooth p-type GaAs(001) films grown by molecular-beam epitaxy using silicon as the dopant. Thin Solid Films, 474( 1-2), 25-30. doi:10.1016/j.tsf.2004.08.004 -
NLM
Lamas TE, Quivy AA, Martini S, Silva MJ da, Leite JR. Smooth p-type GaAs(001) films grown by molecular-beam epitaxy using silicon as the dopant [Internet]. Thin Solid Films. 2005 ; 474( 1-2): 25-30.[citado 2024 out. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.08.004 -
Vancouver
Lamas TE, Quivy AA, Martini S, Silva MJ da, Leite JR. Smooth p-type GaAs(001) films grown by molecular-beam epitaxy using silicon as the dopant [Internet]. Thin Solid Films. 2005 ; 474( 1-2): 25-30.[citado 2024 out. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.08.004 - Pocos quanticos de i 'N IND.0,15' 'GA IND.0,85' 'AS' / 'GA''AS' com dopagem planar de 'SI' no centro
- Spatial confinement of self-organized MBE-growth 'In IND.x''Ga IND.1-X' As quantum dots
- Estudo da difusão de portadores em poços quânticos de InGaAs/GaAs crescidos sobre substratos vicinais de GaAs (001)
- Carbon doping of GaAs and AlGaAs layers grown on (100) and (311) substrates by molecular beam epitaxy
- Ex-situ investigation of indium segregation in InGaAs/GaAs quantum wells using high-resolution x-ray diffraction
- Alignment of self-organized MBE-grown quantum dots
- Reduction of indium segregation in InGaAs/GaAs quantum wells grown by molecular beam epitaxy on vicinal GaAs(001) substrates
- Investigation of the photoluminescence linewidth broadening in symmetric and asymmetric in 'GA''AS' / 'GA''AS' n-type 'DELTA'- doped quantum wells
- Carriers escape mechanisms in shallow InGaAs/GaAs quantum wells grown on vicinal (001) GaAs substrates
- Excitation transfer through quantum dots measured by microluminescence: dependence on the quantum dot density
Informações sobre o DOI: 10.1016/j.tsf.2004.08.004 (Fonte: oaDOI API)
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas