LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas (1999)
- Authors:
- USP affiliated authors: FURLAN, ROGERIO - EP ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP ; MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP ; ZAMBOM, LUIS DA SILVA - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/s0040-6090(98)01587-9
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 343-344, p. 299-301, 1999
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva et al. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, v. 343-344, p. 299-301, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9. Acesso em: 15 fev. 2026. -
APA
Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1999). LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, 343-344, 299-301. doi:10.1016/s0040-6090(98)01587-9 -
NLM
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9 -
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9 - Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0040-6090(98)01587-9 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
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1-s2.0-S0040609098015879-... |
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