Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana (1993)
- Authors:
- Autor USP: HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
PEDRINE, A G e HASENACK, Claus Martin e LOPES, M C V. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 28 mar. 2024. -
APA
Pedrine, A. G., Hasenack, C. M., & Lopes, M. C. V. (1993). Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. In Anais. Campinas: Sbmicro. -
NLM
Pedrine AG, Hasenack CM, Lopes MCV. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. Anais. 1993 ;[citado 2024 mar. 28 ] -
Vancouver
Pedrine AG, Hasenack CM, Lopes MCV. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. Anais. 1993 ;[citado 2024 mar. 28 ] - Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS
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