Electrodeposition of 'FE' thin films (1995)
- Authors:
- Autor USP: HASENACK, CLAUS MARTIN - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 1995
- Conference titles: Brazilian/German Workshop on Applied Surface Science
-
ABNT
MARTINS, L F O et al. Electrodeposition of 'FE' thin films. 1995, Anais.. Rio de Janeiro: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 1995. . Acesso em: 04 ago. 2025. -
APA
Martins, L. F. O., Paes Junior, H. R., Hasenack, C. M., Oliveira, L. S., & Pasa, A. A. (1995). Electrodeposition of 'FE' thin films. In . Rio de Janeiro: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. -
NLM
Martins LFO, Paes Junior HR, Hasenack CM, Oliveira LS, Pasa AA. Electrodeposition of 'FE' thin films. 1995 ;[citado 2025 ago. 04 ] -
Vancouver
Martins LFO, Paes Junior HR, Hasenack CM, Oliveira LS, Pasa AA. Electrodeposition of 'FE' thin films. 1995 ;[citado 2025 ago. 04 ] - Estudo por microscopia eletronica de transmissao (met) do recozimento de defeitos residuais em camadas de silicio recristalizadas
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