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Deposição de silício policristalino por LPCVD (1993)

  • Authors:
  • Autor USP: PEDRINE, ANTONIO GIACOMO - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PEE
  • Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: Neste trabalho apresentamos o processo de deposição de silício policristalino por LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) utilizando nitrogênio como gás carregador. Para caracterização do processo, obtivemos inicialmente a relação entre fração molar de silana e taxa de deposição do filme. Com esse resultado, pudemos notar a pequena influência do processo de difusão de massa. Através de fotomicrografias de força atômica e varredura, pudemos acessar a influência da fração molar de silana na rugosidade superficial do filme. Analises por difração de raios-x mostraram que o filme exibe as seguintes orientações cristalográficas preferenciais: (110), (111), (311) e (331). Através de fotomicrografias de força atômica verificou-se que o tamanho de grão para filmes de espessura 0,5 micrometros possui tamanho de grão variando de 100 a 240 nanometros (valores próximos dos obtidos através de medidas de raios-x). Verificou-se também a estrutura colunar do filme.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 25.10.1993
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      PEDRINE, Antonio Giacomo. Deposição de silício policristalino por LPCVD. 1993. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1993. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11122024-152603/. Acesso em: 18 mar. 2026.
    • APA

      Pedrine, A. G. (1993). Deposição de silício policristalino por LPCVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11122024-152603/
    • NLM

      Pedrine AG. Deposição de silício policristalino por LPCVD [Internet]. 1993 ;[citado 2026 mar. 18 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11122024-152603/
    • Vancouver

      Pedrine AG. Deposição de silício policristalino por LPCVD [Internet]. 1993 ;[citado 2026 mar. 18 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11122024-152603/

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