Obtencao de um processo de litografia de multicamadas (1993)
- Autores:
- Autores USP: MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Resumos
- Nome do evento: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
-
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. 1993, Anais.. Recife: Ufpe, 1993. . Acesso em: 26 ago. 2024. -
APA
Mansano, R. D., Yunaka, N. T., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1993). Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. In Resumos. Recife: Ufpe. -
NLM
Mansano RD, Yunaka NT, Verdonck PB, Maciel HS. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. Resumos. 1993 ;[citado 2024 ago. 26 ] -
Vancouver
Mansano RD, Yunaka NT, Verdonck PB, Maciel HS. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. Resumos. 1993 ;[citado 2024 ago. 26 ] - Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas
- Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation
- Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments
- Isotropic etching of deep trenches in silicon
- Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
- Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process
- A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
- Silicon surface roughness induced by SF6-based reactive ion etching process for micromachining applications
- Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna
- Characterization of mode transitions for RF discharges in different gases
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
