Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure (1991)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Source:
- Título: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.138, n.8 , p.2377-81, aug. 1991
-
ABNT
FURLAN, Rogério e VAN DER SPIEGEL, J e SWART, Jacobus Willibrordus. Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure. Journal of the Electrochemical Society, v. 138, n. 8 , p. 2377-81, 1991Tradução . . Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Furlan, R., Van der Spiegel, J., & Swart, J. W. (1991). Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure. Journal of the Electrochemical Society, 138( 8 ), 2377-81. -
NLM
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 8 ): 2377-81.[citado 2026 fev. 14 ] -
Vancouver
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 8 ): 2377-81.[citado 2026 fev. 14 ] - Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum
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