Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio (1988)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1988
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica
-
ABNT
FURLAN, Rogério e SWART, Jacobus Willibrordus. Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 26 abr. 2024. -
APA
Furlan, R., & Swart, J. W. (1988). Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Furlan R, Swart JW. Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio. Anais. 1988 ;[citado 2024 abr. 26 ] -
Vancouver
Furlan R, Swart JW. Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio. Anais. 1988 ;[citado 2024 abr. 26 ] - Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
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